KT-S2DQX-C 性能参数

　　供电电源 AC220V（AC110V可选)

　　工作电流 整机工作电流不大于3.5A(不含真空泵)

　　射频电源功率 150W

　　射频频率 13.56MHz

　　频率偏移量 ＜0.2MHz

　　特性阻抗 50欧姆，手动匹配

　　耦合方式 电容耦合式

　　真空度 ≤100Pa

　　腔体材质 高纯石英

　　清洗物品容积 500ml

　　清晰物品重量 2.5KG

　　石英管口径 Φ50

　　气体流量 手动控制

　　过程控制 触摸屏自动控制+手动调节流量

　　清洗时间 触屏控制

　　开盖方式 铰链侧开式法兰

　　旋转等离子清洗机，

　　等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的"活化作用"达到去除物体表面污渍的目的。等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。

　　等离子体清洗技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗等离子清洗机作为一种微观固体表面的处理设设备，是一种全新的表面处理方案。等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子清洗机是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁等目的。

　　此款等离子清洗机针对粉末或者颗粒的360度表面处理设备，通过旋转机构带动石英搅拌罐使样品处于悬空位置达到360度清洗。

　　主要应用于半导体、镀膜工艺、PCB制程、PCB制程、元器件封装前、COG前、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗，塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。

　　该清洗机内置高纯石英仓体，采用了新型的电极结构设计和固态电源技术，使其有效容积增大，不同真空 气体环境下容易匹配，且控制频率稳定。真空仓门有观察窗，可直观物体的处理过程，其射频电源与控制都组装在一个机箱内，即减少了空间的占用，更便于操作和放置，同时与大型清洗机相比较，从检测功能与控制功能的设置上均可一个面板上操作，特别适用科学实验 样品清洗 和教学。