小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD是一款小型多功能镀膜仪，额定1800度高温，自动样品挡板，靶台旋转，触摸屏多段控制，工艺储存等功能。

　　正空蒸发镀膜包括以下基本过程:（1）加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程，每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。（2）气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输，即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

　　主要特点/优势:

　　★玻璃钟罩真空腔室，*直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察；

　　★复合分子泵和直联旋片泵，大抽速准无油真空系统（分子泵抽速≥400L/S）；

　　★两组水冷式蒸发电极，可长时间稳定工作，兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计；

　　★专业真空蒸发电源，数显工作电流和电压，恒流输出；

　　★可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；

　　★衬底可选择加热或水冷，源基距≥300mm；

　　★可调速旋转靶台使薄膜更均匀

　　★可沉积金属（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金属、化合物（MoO3, LiF等）及有机物材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜；

　　★ 7寸显示器定时定点调节电流，达到控制功率效果

　　★具有记忆储存功能，直接调出已储存的数据进行镀膜达到同样工艺效果

　　★配置了靶台挡板，可手动调节或自动调节挡板，及时遮挡样品，保证样品效果

　　蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发，凝聚，成核，核生长，形成连续的膜。由于基板温度远

　　低于基板温度远低于蒸发源温度，因此，气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。