详细说明
钛 靶
一、牌号
国内牌号:TA1、TA2。 美标牌号:GR1、GR2。
二、靶材的主要性能要求:
(1)纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。
(2)杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
三、加工工艺
锻造、轧制。
四、表面
车光、倒角。表面清洁光滑,无起皮,气孔,裂纹等缺陷。
五、规格
Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40较常见,其他规格可按客户要求制作。