时间:2016-11-22 10:07
改良型胶体磨,创新胶体磨,研磨分散胶体磨,研磨分散机
改良型胶体磨,这种独特的设计,放眼世界,独上海IKN一家,更多关于改进型胶体磨的信息,
CMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散设备是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)
CMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。
第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
CMD2000系列改良型胶体磨,研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
改进型胶体磨,研磨分散机,研磨均质机,研磨乳化机,全新的设计理念,超高设备剪切力,以及稳定的设备运行,IKN为广大企业提供优质的设备服务!