改良型胶体磨，创新胶体磨，研磨分散胶体磨，研磨分散机

　　改良型胶体磨，这种独特的设计，放眼世界，独上海IKN一家，更多关于改进型胶体磨的信息， 

　　CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变更为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

　　CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

　　第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

　　CMD2000系列改良型胶体磨，研磨分散机的特点:

　　①   线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

　　②   定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

　　③   定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

　　④   在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　⑤   高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

　　改进型胶体磨，研磨分散机，研磨均质机，研磨乳化机，全新的设计理念，超高设备剪切力，以及稳定的设备运行，IKN为广大企业提供优质的设备服务！