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IKN上海CM2000

时间:2016-11-16 13:35

  高剪切超细三级胶体磨,高剪切超细胶体磨,超细乳化设备,进口胶体磨,对于胶体磨来说最大的一个目的就是要达到乳化的效果,那么从设备角度来说影响乳化效果的因素有哪些呢?

  1、乳化头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好) 

  2、乳化头的剪切速率(越大,效果越好) 

  3、乳化头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好) 

  4、物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)。

  5、循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

  另外线速度是衡量设备效果的一个重要的指标

  线速度的计算

  剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。 

  –剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)

  g 定-转子 间距 (m) 

  由上可知,剪切速率取决于以下因素: 

  –转子的线速率

  –在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。

  IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

  上海依肯自主研发生产的超细胶体磨,具有高转速、低能耗、低噪音、高寿命等优势,经过IKN全体研发生产部员工的不懈努力,终于解决了IKN高剪切胶体磨的提速问题。市场上一般使用的胶体磨由于定转子精度以及机械密封的原因,转速最高只能达到2910转,而IKN最新研发的立式分体式胶体磨将转速提高到9000转,从而更好的解决了市场的需求。

  超细胶体磨的特点:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性;该设备可以适用于各种分散乳化工艺,也可用于生产包括对乳状液、悬浮液和胶体的均质混合;三级胶体磨由定、转子系统所产生的剪切力使得溶质转移速度增加,从而使单一分子和宏观分子媒介的分解加速。

型号标准流量L/H输出转速rpm标准线速度m/s马达功率KW进口尺寸出口尺寸
CM2000/4300-1,0009,000232.2DN25DN15
CM2000/53,0006,000237.5DN40DN32
CM2000/108,0004,2002315DN50DN50
CM2000/2020,0003,0002337DN80DN65
CM2000/3040,0001,5002355DN150DN125
CM2000/4070,0001,5002390DN150DN125