抛光的原理主要反映在2个方面:微粒研磨原理；物理化学原理。
1、微粒研磨:当磨料颗粒由粗磨到细磨、抛光时，磨料在石材表面磨削的痕迹由粗到细再到无肉眼看到的痕迹，表面便呈现光滑、平整、细腻，当深度达110微米时，被加工面出现镜面光泽，光彩照人，色泽鲜艳。
微粒研磨由以下几道工序组成:
①粗磨:要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的纹路粗，磨出的表面较粗糙，主要清除产品在前道工序中留有的锯片痕迹并将产品的平整度，造型面磨削到位；
②半细磨:将粗磨痕迹清除，形成新的较细的纹路，产品加工面平整、顺滑；
③细磨:细磨后的产品花纹、颗粒、颜色已清楚地显示出来，表面细腻、光滑，开始有微弱的光泽度；
④精磨:加工后的产品，无肉眼察觉的痕迹。表面越来越光滑，光泽度约40~50度左右；
⑤抛光:表面明亮如镜，具有一定的镜面光泽度（85度以上）。
2、物理化学原理:抛光的过程有2个，即“干抛光与湿抛光”，抛光磨石在“干与湿”之间当石材产品发生物理化学作用，干抛光是在石材表面温度升高使水分蒸发，导致抛光磨石浓度增大，从而达到强化效果，产品光泽度开始达到了理想要求，光泽度达85度以上或更高。
抛光磨石在被加工产品上抛光，待抛光产品烫手后，将板面加水量水，以起到降温作用，不允许连续加水或大量加水，否则，水的润滑作用将会使抛光达不到理想效果，也不能全部使用干抛光，过高的温度会烧坏板面，而且会使板面出现裂纹。
一般而言，产品精磨后，产品的光泽度在40~50左右，而有些石材精磨后达不到上面的光泽度，如山西黑、黑金砂、集宁黑等，此类产品精磨后的光泽度只有20~30度之间，用前面的微粒研磨原理解释不够一面，这种产品在抛光“干与湿”，温度的升高，降温中，强化抛光过程，发生物理化学反应，产品在经过“干抛光、湿抛光”中，光泽度逐步提高，光泽度达85度以上
影响石材抛光的几个因素
石材抛光效果取决于两个方面:一是所采用的抛光技术即“后天”人为的外因；二是石材本身存在“先天”的内因。
如果不考虑石材本身所具有的内因，单就抛光工艺而言，影响石材抛光的几个主要因素是抛光剂的类型，抛光液（膏），抛光磨具，抛光盘（具、磨块）和抛光工艺参数。
（1）抛光剂的类型
抛光剂虽然是一种特殊的磨光材料，但它与磨削材料的区别主要是表现在加工机理上。原则上说，有一些低硬度的微粉材料也可做抛光剂使用。但通常高硬度的抛光剂比低硬度的好，且适用范围也广。金刚石抛光粉，对绝大多数石材的抛光，都能取得较为满意的抛光效果。
（2）抛光液（膏）
水是常用的抛光液。它既可起磨削冷却的作用，又可作为抛光过程中物理作用和化学作用的介质。
若石材的抛光是以机械磨削作用为主，如金刚石微粉，抛光液一般用油类有机液体效果较好，如缝纫机油。其冷却、润滑和分散作用极好。
金刚石研磨膏，既有水质的，又有油质的，并且还可以加上着色剂。其配方为:磨料+分散剂+载体+水+着色剂。
（3）、抛光盘（具、磨块）
规格平整的石材光面板，是石材平面磨削的一种表达加工的表现形式，多采用含有金属材料制成的硬盘作抛光盘。软盘抛光的抛光面，在石材受压时易屈服成一凹面，适用于弧面型抛光。中硬盘的耐磨性，吸附性较好，并具有一定的弹性，对平面型石材抛光的效果也比较好。
（4）、抛光工艺参数
工艺参数有抛光剂的浓度和供给量，抛光时的压力和线速度等。在小于某一浓度值之前，抛光速度随抛光剂浓度的增加而增加，浓度值达最大之后，若再增加浓度，抛光速度反而降低。同样，抛光剂的供给量在一定值时，抛光速度最大，之后若继续增加供给量，抛光速度反而降低。适当增加抛光时的压力，可以增加抛光速度，但压力过大，磨削作用加强，不利于光泽面的形成。抛光速度取决于抛光盘（具）的转速，但线速度过大，抛光剂将会被甩出，造成浪费。
（5）、前道工序的质量和石材表面的粗糙程度。
如果考虑石材本身所具有的内因，如石质材料的矿物成分，则主要表现为石材抛光的工艺特性。
①不同矿物组成的石材，其抛光的工艺特性不同。如主要有蛇纹石矿物组成的石材，像大花绿大理石，就属于韧性较强，可琢磨，但不容易抛光的石材。
②大理石中含有一定数量的土矿物，也会影响石材的光泽度。典型的例子是安徽的红皖螺。岩石名称为选层石生物灰岩。平行层面锯切的板材呈花朵型生物纹饰，更似蚌螺，非常美丽，但因为矿石中含有一定数量的粘土矿物成分，抛光后的板材很难达到85以上的光泽度。
③疏松状的花岗石，往往是云长类矿物发生了一定程度的风化作用（粘土化或水云母化），其抛光效果也难以达到新鲜花岗石的抛光水平。这一点应当是石材的质量问题。
④理论上讲，不同的矿物应该使用不同的抛光剂。抛光是石材的一种精细加工技术，有人称表面的增光技术。影响石材抛光的因素很多，既有抛光工艺过程中工艺条件和参数方面的问题，也有抛光剂的种类和辅助材料及抛光盘（具、块）方面的问题，还和石材矿物组成及其质量有关