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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
6 洗脱曲线IIP-PEI/Si O2的洗脱曲线如图8所示, 解吸率可以通过以下方程式进行计算: 解吸率 = 解吸液中金属离子量 /IIP-PEI/Si O2吸附的金属离子量×100% 结果表明, 在13 BV时, 解吸率达到99.04%。表明盐酸溶液对Cr3+的解吸率较高。这可能是因为PEI大分子上的氨基在强酸溶液下质子化 , N原子失去了与重金属离子螯合的能力。7 印迹条件对 IIP-PEI/Si O2的影响3.7.1 模板离子浓度的影响 Cr3+与IIP-PEI/Si O2上N原子的摩尔比通过改变Cr3+溶液的浓度变化, 合成出不同的印迹材料IIP-PEI/Si O2, 图9表明IIP-PEI/Si O2的饱和吸附量随着Cr3+和N原子的摩尔比变化的关系。 图 8 洗脱曲线:0.01 mol/L 的盐酸水溶液 ; 流 速 :1BV/h L;温度:20 ℃
碳纳米管负载金纳米团簇Au15(SR)13小尺寸金纳米团簇
Cd1Au14(StBu)12合金纳米团簇
金刚烷硫醇保护的Au40(S-Adm)22纳米团簇
γ-环糊精-金属有机框架(γ-CD-MOF)
Au25(SR)18不同配体不同数量金纳米团簇
二氧化硅-BPEI-金纳米团簇
Au38(SR)24金团簇
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将1.5 g的IIP-PEI/Si O2装入玻璃柱 (直径为8 mm) , 柱体积为2 m L。配制初始浓度为1000 mg/L的Cr3+离子溶液, 使其逐渐通过玻璃柱, 速度为每小时5床体积 (5 BV/h) 。收集1个床体积的流出液, 测定流出液Cr3+含量, 绘制动态吸附曲线, 计算渗透吸附量和饱和吸附量。采用0.01 mol/L的HCl溶液作为解吸剂对吸附剂进行解吸, 解吸剂的流速为1 BV/h。收集1BV/h的流出液, 测定其Cr3+浓度, 绘制解吸曲线。
试验例2体外细胞毒性测试选择人肝癌细胞hepg2和成纤维细胞l929以研究纳米凝胶的细胞毒性。将细胞在含有10%fbs和抗生素(青霉素和链霉素,100u/ml)的dmem培养基中,于37℃在含有5%co2的潮湿气氛中温育。
使用mtt测定法在l929细胞和hepg2细胞上测试细胞毒性。简而言之,将对数期的细胞接种到96孔板中。在100μldmem中孵育24小时后,将在100μldmem中具有不同浓度的一系列p(cpt-maa)前纳米凝胶(根据实施例6制备)加入每个孔中并进一步孵育24,48和72小时。在预定时间点,用200μl新鲜dmem替换培养基,加入20μlmtt溶液(5mg/ml,在生理盐水中)。进一步温育4小时后,弃去培养基并用150μldmso替换。摇动后,通过酶标仪在570nm处测量每个孔的光密度(od)。结果在六个单独的实验中取平均值,并表示为平均值±sd。细胞活力(cv)计算如下等式:cv(%)=od(处理的)/od(未处理的)×100%。此外,如上所述评估空白纳米凝胶(根据实施例16制备)的细胞毒性。