详细说明
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产品参数
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品牌：东城粤宏再生资源回收
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特色：量大价优
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上门时间：可协商
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服务保障：专业靠谱
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类型：回收
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售后：现场结算
- 产品优势
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产品特点：
专业从事废金属回收，废电子回收，废塑料回收，废五金回收，废铝回收，PC回收，ABS回收，PP回收，PVC回收，PE回收，GPPS回收，POM回收，PPS回收，PMMA回收，AS/MS/TPU/TPE回收，废不锈钢回收，各类工厂废料回收等。
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服务特点：
热忱欢迎各企事业单位来电垂询，洽谈业务，互惠互利 ,希望与贵厂签订合同，长期合作,我们将竭诚为广大客户服务,共创美好明天。诚信合作，真诚服务。
桥头一次性手套长期回收
1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。
1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。
PIB-b-PDMSPoly(isobutylene-b-dimethylsiloxane)
聚异丁烯-b-聚二甲基硅氧烷
PIB-b-PCL
Poly(isobutylene-b-ε-caprolactone)
聚异丁烯-b-聚已内酯
PIB-b-P4VP
Poly(isobutylene-b-4-vinyl pyridine)
PMMA-b-PNPAPoly(methyl methacrylate-b-neopentylacrylate)
聚甲基丙烯酸-b-聚新戊酯
PMMA-b-PNA
Poly(methyl methacrylate-b-n-nonylacrylate)
聚甲基丙烯酸-b-聚壬酯
PMMA-b-PHEMA
桥头一次性手套长期回收
PS-b-PnBuMAPoly(styrene-b-n-butyl methacrylate)
聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸丁酯
PS-b-PtBuOS
Poly(styrene-b-t-butoxystyrene)
聚苯乙烯-b-聚丁氧基苯
PS-b-PtBuMA
Poly(styrene-b-t-butyl methacrylate)
Poly(dimethylsiloxane-b-t-butyl acrylate)
PDMS-PHEA
Poly(dimethylsiloxane-b-hydroxy ethylacrylate)
PDMS-PMMA
Poly(dimethylsiloxane-b-methylmethacrylate)PDMS-PtBuMA