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　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　在环境保护方面，PIB-b-PMAA由于PMAA部分的亲水性，可以作为一种水溶性吸附材料，广泛应用于水处理和污染物去除。PIB部分的疏水性有助于吸附和去除水中有机污染物，而PMAA则能够吸附一些无机污染物，尤其是对重金属离子的吸附效果较好，适用于水净化。此外，PIB-b-PMAA还可应用于涂料和涂层，作为增强材料的稳定性和*污性。PIB的疏水性有助于提高涂料的耐污染性，而PMAA部分则改善了涂层的附着力和抗湿性。因此，PIB-b-PMAA在工业涂层、电子元件保护等领域有重要的应用。

　　需要说明的是，本说明书中描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例以及不同实施例的特征进行结合和组合。近年来,分子结构清晰、可控的含有机硅链段两亲性共聚物的合成与胶束化备受关注。然而,大多数研究于含有机硅链段的两亲性嵌段共聚物,对具有亲水性主链、有机硅侧链的两亲性接枝共聚物缺乏研究。这一结构的共聚物可在溶液中形成可逆凝胶,并且可能作为一种理想的增长。

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　　硅表面分子印迹聚合物 (SSMIP) 是在硅材料表面制备的对目标分子具有高选择性和高吸附量的分子印迹聚合物。SSMIP一般具有以下优势: (1) 通过硅胶能够得到尺寸和形状可控、单分散性好的MIP; (2) 硅材料的力学稳定性和热稳定性较好, 能够提高MIP的力学性能和耐用性; (3) 由于印迹只发生在硅材料的表面, 可以有效减少包埋现象, 有利于模板分子的洗脱和识别, 提高了模板分子的利用率[1,2]。因此, SSMIP引起了研究者的广泛关注。1949年Dickey[3]用染料甲基橙作为模板分子, 制得对甲基橙吸附能力比乙基橙高2倍的吸附材料, 这项研究揭开了SSMIP的崭新一页。至今, 关于SSMIP的研究文献达上千篇, 近年来更是呈现急剧增加的态势。本文着重综述SSMIP制备方法的研究进展, 并简要介绍SSMIP的应用情况。

　　建筑材料是PMA应用的又一重要领域。PMA可以用来制造各种建筑用涂料和粘合剂，提高建筑材料的耐久性和美观度。例如，PMA制成的外墙涂料具有良好的耐候性和抗污染能力，使建筑物长期保持洁净和美观。PMA还可以用于生产防水涂料和密封剂，提高建筑物的防水性能。PMA的市场前景 随着工业技术的不断进步和应用领域的不断拓展，PMA的市场需求呈现出稳步增长的趋势。是在高性能材料和材料的研发中，PMA发挥着越来越重要的作用。随着人们对环境保护和可持续发展的关注，PMA基材料的优势将更加凸显，为其在市场中的竞争力提供有力支持。