鼎湖HIPS塑料回收公司

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　Methoxy poly(ethyleneglycol)-b-polyethyleneimine聚乙二醇-b-聚乙烯亚胺PCL-b-PEI

　　Poly(ε-caprolactone)-b-polyethyleneimine

　　聚已内酯-b-聚乙烯亚胺

　　PLGA-b-PLL

　　Poly(lactide-co-glycolide)-b-poly(lysine-Zprotected)

　　进一步优选地，所述原料的重量配比为:喜树碱前50份、甲基丙烯酸450份、交联剂55.6份、引发剂16.8份；喜树碱前:甲基丙烯酸的质量比为1:(4～19)；

　　喜树碱前:交联剂的质量比为50:(26.3～125)；

　　喜树碱前:引发剂的质量比为50:(8.4～33.6)。

　　进一步地，所述交联剂选自甲叉双丙烯酰胺、n,n'-双(丙烯酰)胱胺中一种或两种。

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　　聚丁二烯-b-聚乙烯基吡啶PIB-b-PtBuMA

　　Poly(isobutylene-b-t-butyl methacrylate)

　　聚异丁烯-b-聚甲基丙烯酸丁酯

　　PIB-b-PMMA

　　Poly(isobutylene-b-methyl methacrylate)

　　聚异丁烯-b-聚甲基丙烯酸

　　开发基于醋酸纤维素（CAA）、羟丙基壳聚糖（HPCS）和氨基修饰的CNCs（CNC-NH2）的可注射多糖水凝胶。结果表明，CNC-NH2具有物理交联和化学交联的双重作用，其力学性能、内部形貌和胶凝时间取决于CNC-NH2的含量。另外，研究发现该水凝胶在生理条件下表现出pH响应特性，在酸性条件下表现出自愈行为，并且具有良好的生物相容性，因此其在实际生物医学应用中展现出巨大潜力。本文以甲基丙烯酸(MAA)为单体,十二烷基硫醇(DDT)为链转移剂,通过自由基聚合得到了水溶性的硫醚端基聚合物配体DDT-PMAA,进一步将配体DDT-PMAA作为稳定剂通过高温共沉淀法制备了水溶性的四氧化三铁磁性纳米颗粒