城区亚克力水口料回收厂家电话

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　分子印迹纳米材料纳米材料是指三维尺度中有一维以上处于纳米量级(1～100nm),即由尺寸介于原子、分子和宏观体系之间的纳米粒子所组成的新一代材料。纳米材料与传统材料相比有较低的熔点、较小的体积、巨大的比表面积、强化学活性和催化活性,此外其还有的比热、光学、电学、磁学、力学等一系列优良的性能。 分子印迹技术利用纳米材料巨大的比表面积制备印迹聚合物,可以充分地暴露印迹识别位点,大大减少吸附过程当中的传质阻力,增强吸附过程的动力学特征,进而提高吸附量。纳米分子印迹聚合物的形式主要为纳米粒子、纳米管和纳米膜。张忠平等以硅为基质通过溶胶凝胶反应分别制得了对TNT有特异性识别的纳米粒子。其制得的纳米粒印迹材料的印迹位点密度大约为普通印迹材料的5倍。其动力学研究表面,纳米印迹粒子达到平衡所用的时间也只为普通印迹材料的1/3。

　　聚氧乙烯-b-聚甲基丙烯酸叔丁酯PEO-b-PMOXZPoly(ethylene oxide-b-2-methyl oxazoline)

　　聚氧乙烯-b-聚甲基恶唑啉

　　PEO-b-PGD

　　Poly(ethylene oxide-b-glycolide)

　　聚氧乙烯-b-聚丙交酯

　　PIB-b-PAA

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　　V是溶液的体积 (L) ;m是吸附剂IIP-PEI/Si O2的质量 (g) 。2.4.2 吸附等温线测定 称取0.2 g的IIP-PEI/Si O2加入锥形瓶中, 分别将100 m L不同质量浓度的 (10, 20, 30~80mg·L-1) 的Cr3+溶液加入到锥形瓶中。将锥形瓶放入到振荡器中 (预先设定的温度及p H) 。当吸附达到平衡, 依据下式计算平衡吸附量3 选择吸附实验为了研究IIP-PEI/Si O2对Cr3+的选择吸附性, 研究了Cr3+与Zn2+、Pb2+的竞争吸附。配制Cr3+/Zn2+及Cr3+/Pb2+的混合液。对上述两种混合溶液进行静态吸附, 在吸附达到平衡后, 测定溶液中Pb2+、Zn2+、Cr3+的含量。 IIP-PEI/Si O2对Pb2+、Zn2+和Cr3+的分布吸附系数 (Kd) 可通过式 (3) 计算

　　2 IIP-PEI/Si O2的合成过程合成复合材料PEI/Si O2的反应过程见参考文献。在PEI大分子接枝到硅胶表面后, 在水中充分膨胀, 对Cr3+产生了较强的螯合力。首先, 发生环氧氯丙烷与PEI链上的氨基的开环反应, 当Na OH加入时, ECH和PEI链的氨基发生脱氯化氢反应。用盐酸溶液去除模板离子, 形成IIP-PEI/Si O2。合成过程如示意图1所示。Cr3+溶液体积:5 m L, PEI 溶液体积: (a) 27.0 m L (b) 28.0 m L (c) 29.0 m L (d) 29.2 m L (e) 29.4 m L (f) 29.6 m L (g) 29.8 m L (h) 30.0 m L (i) 32.0 m L3.3 PEI/SiO 2和 IIP-PEI/Si O2的红外光谱