三乡TPU回收价格

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　开发基于醋酸纤维素（CAA）、羟丙基壳聚糖（HPCS）和氨基修饰的CNCs（CNC-NH2）的可注射多糖水凝胶。结果表明，CNC-NH2具有物理交联和化学交联的双重作用，其力学性能、内部形貌和胶凝时间取决于CNC-NH2的含量。另外，研究发现该水凝胶在生理条件下表现出pH响应特性，在酸性条件下表现出自愈行为，并且具有良好的生物相容性，因此其在实际生物医学应用中展现出巨大潜力。本文以甲基丙烯酸(MAA)为单体,十二烷基硫醇(DDT)为链转移剂,通过自由基聚合得到了水溶性的硫醚端基聚合物配体DDT-PMAA,进一步将配体DDT-PMAA作为稳定剂通过高温共沉淀法制备了水溶性的四氧化三铁磁性纳米颗粒

　　Yuan等[14]首先将MAA接枝聚合到硅胶的表面, 然后以苯酚为模板、EGGE为交联剂制备苯酚SSMIP。实验结果表明, 该SSMIP的饱和结合量为160mg/g, 对邻甲酚和氯酚的选择性系数分别高达22和23。杨挺等[15]以3- (异丁烯酰氧) 丙基三甲氧基硅烷为媒介, 将PMAA偶合接枝到硅胶表面。以克仑特罗为模板分子, MAA为单体, EGGE为交联剂, 在甲醇/水溶液中对接枝在硅胶表面的PMAA大分子链进行印迹, 制备了克仑特罗SSMIP。该SSMIP对克仑特罗具有特异的识别选择性、优良的结合亲和性及洗脱性, 吸附在20min时能达到平衡, 饱和吸附量为15.8mg/g。

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　　Poly(styrene-b-2-hydroxyethyl methacrylate)聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸羟乙酯

　　PS-b-PHPMA

　　Poly(styrene-b-2-hydroxypropylmethacrylate)

　　聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸羟丙酯

　　PS-b-P4HOS

　　Poly(styrene-b-4-hydroxyl styrene)

　　聚乳酸-羟基乙酸-b-聚赖氨酸PS-PPBDPoly(styrene)-2-phenyl-2-propylbenzodithioate

　　mPEG-b-PGUA

　　Poly(ethylene glycol)-poly(glutamic acid)

　　聚乙二醇-b-聚谷氨酸

　　PGUA-PEG-PGUA