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　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　Maleimido TerminatedPoly(styrene-b-ethylene oxide)PS-PCL-SH

　　Thiol end functionalizedPoly(styrene–b–e-caprolactone)

　　P4VP-PCL-SH

　　Thiol end functionalized Poly(4-vinylpyridine–b–caprolactone)

　　建筑材料是PMA应用的又一重要领域。PMA可以用来制造各种建筑用涂料和粘合剂，提高建筑材料的耐久性和美观度。例如，PMA制成的外墙涂料具有良好的耐候性和抗污染能力，使建筑物长期保持洁净和美观。PMA还可以用于生产防水涂料和密封剂，提高建筑物的防水性能。PMA的市场前景 随着工业技术的不断进步和应用领域的不断拓展，PMA的市场需求呈现出稳步增长的趋势。是在高性能材料和材料的研发中，PMA发挥着越来越重要的作用。随着人们对环境保护和可持续发展的关注，PMA基材料的优势将更加凸显，为其在市场中的竞争力提供有力支持。

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　　2 新的材料制备技术(1)分子印迹磁性材料 磁性材料从材质上可以分为金属及合金磁性材料和铁氧体磁性材料两大类。铁氧体磁性材料又可以分为多晶结构和单晶结构材料。从应用的功能上来分,磁性材料又可以分为软磁材料、永磁材料、磁记录2矩磁材料、旋磁材料等。结合磁性材料的分子印迹技术制备的MIPs称为磁性分子印迹聚合物,表面修饰过的磁性微球在聚合过程中嵌入MIPs母体中,从而使MIPs具有一定的磁性。MIPs在再识别吸附过程完成后,分离传统MIPs和溶液需要离心或过滤等烦琐的步骤。磁性分子印迹聚合物则只需外加一个磁场即可以实现与溶液分离,其操作简单且分离时间短。在磁性分子印迹技术所应用的磁性粒子主要为Fe3O4。Fe3O4为无机化合物,不能和有机体系相容,因此磁性微球先由聚乙二醇4000/6000等活性组分进行活化得到有机相容性磁性复合微球,磁性复合微球在聚合过程中包埋于MIPs中。也有通过溶胶2凝胶使硅包裹磁性离子。

　　孙宝维等就模板结构与分子印迹效果间关系提出:大多只有一个性基团的化合物,与功能单体作用的数目较少,不易产生印迹效应;一般含多个性基团,少数含一个性基团并具有一个大的疏水结构的化合物在印迹过程中表现出协同效应;具有多个性基团,而且同时具备部分刚性和柔性结构的化合物,可地与功能单体作用。2.2 功能单体的选择 在制备分子印迹聚合物过程中,选择合适功能单体种类及与模板分子的配比,下面是几种筛选功能单体的方法。