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1942年,英国Eisler发明印刷电路板 [39],重铬酸盐感光材料作为光敏抗蚀剂用于制造印刷线路板。重铬酸在紫外光作用下还原成三价铬离子,三价铬离子可和水溶性聚合物中的羰基、胺基、羟基等作用形成不溶的配位络合物。
1943年,美国杜邦公司提交了世界第一份有关光引发剂的发明专利,尽管这种二硫代氨基甲酸酯化合物感光活性较低,后来也未能转化为实际应用,但确实开启了一种全新的聚合物材料加工技术。
1948年,美国专利中出现第一个光固化油墨配方和实施技术的专利。
1949年德国Kalle公司首先开发成功紫外正性光刻胶。
1954年,由柯达公司的明斯克(L. M. Minsk)等人研究成功的光敏剂增感的聚乙烯醇肉桂酸酯成为第一个光固化性能的光刻胶 [39],牌号KPR。先用于印刷工业,后用于电子工业。
1958年,柯达公司发展出了叠氮-橡胶系的负性光刻胶 ,牌号为KMER和KTFR。
PEI 在SiO2上的接枝量:3.18 g/100 g;温度:20 ℃;pH=7PEI 在 SiO2上的接枝量:3.81 g/100 g;温度:20 ℃;时间:30 min;p H:7 3.4.3 选择吸附 IIP-PEI/Si O2对Cr3+/Zn2+和Cr3+/Pb2+在混合溶液中的竞争吸附, 相关分布系数kd数据、选择系数k和相对选择系数k' 如表1所示。从表1中可以看出: (1) 相对于Zn2+和Pb2+, PEI/Si O2对Cr3+的选择吸附系数较低,分别是0.456和0.354; (2) 相对于Zn2+和Pb2+, IIP-PEI/Si O2对Cr3+的选择吸附系数较高, 分别为11.23和21.00; (3) IIP-PEI/SiO2对Cr3+/Zn2+和Cr3+/Pb2+的相对选择系数分别为24.63和59.32。上述研究结果表明I-P-PEI/Si O2对Cr3+的吸附能力较强, 远远超过对Zn2+和Pb2+的吸附。这可能是因为对Cr3+的孔穴印迹与Zn2+和Pb2+的尺寸、形状及空间结构不符。Pb2+ (120 pm) 及Zn2+ (74 pm) 比Cr3+ (64 pm) 大, 所以无法进入Cr3+的印迹孔穴中。另外, PEI与Cr3+的配体为6, 而与Pb2+和Zn2+的配体为4。所以因为与结合点不相配 , Pb2+或Zn2+与IIP-PEI/Si O2结合。
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Co-AuNCs ABEI@ Oxi-Dex纳米复合材料[Au8Ag57(Dppp)4(C6H11S)32Cl2]Cl三维(3D)八聚体结构
(ATT)保护的AuNCs
蛋氨酸保护的AuNCs
酶-金属亚纳米团簇复合物
脂肪酶-钯亚纳米团簇复合催化剂(0.8Pd/CALB-Pluronic)
膜分离技术在水处理、化工、医疗等领域具有广泛的用途。本文以聚砜(PSF)膜为研究对象,将6-葡萄酸内酯和聚甲基丙烯酸固定在PSF膜表面,分别制备了一种抗污染膜和一种离子交换膜,并对膜的对蛋白吸附性能进行了研究。
利用树状聚合物单分子制备胶束树状聚合物是两亲性分子,表面亲水,内部疏水,作用类似于胶束,每个胶束由单分子树状聚合物构成,因而称为单分子胶束。树状聚合物具有以下优点:能在较大的范围内和多种溶剂中保持分散状态,不聚集,不受临界胶束浓度的影响。以甲氨蝶呤(MTX) 为模型物,研究了聚酰胺-胺型(PAMAM)树状大分子与MTX的复合及体外释放。该复合物在pH = 7.4 ,10 m mol/L Tris-HCl中稳定,表现出明显的缓释效果。当溶液中的离子强度增加时,会破坏PAMAM-MTX复合物的稳定性,缓释作用部分或失去, 说明PAMAM树状大分子与MTX之间的相互作用属于静电作用。