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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
进一步地,所述引发剂选自偶氮类引发剂。优选地,所述引发剂为偶氮二异丁腈。
进一步地,所述的喜树碱前凝胶满足以下至少一项:
喜树碱前的接枝率为75.5~95.4%;
所述喜树碱前凝胶的粒径为331~1205nm;
所述喜树碱前凝胶的电位为-21.5~-17.4mv。
进一步地,所述的喜树碱前凝胶由下述方法制备得到:取喜树碱前、甲基丙烯酸、交联剂和引发剂,分散于反应溶剂中,于保护气氛下反应,即得。
2) 升温至210~300℃,水解3~50小时;3) 水解液冷却、卸压,再在常压下蒸去水份、真空干燥后得到聚甲基丙烯酸固体产物。
上述方法在水解过程中不需加入催化剂,过程简单、绿,水解产物在纺织工业中可用作纤维纺织过程的保护用胶黏剂,与其它树脂共混也可制备离子交换树脂。
聚丙烯酸甲酯(简称PPMA)是一种聚合物浆料,具有以下性质:
物理性质:聚丙烯酸甲酯浆料是无、透明且具有高流动性的液体。它在常温下具有较低的黏度,可方便地进行喷涂、涂覆和注射成型等工艺。
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PDMS-b-PMAA(聚二甲基硅氧烷-聚丙烯酸嵌段共聚物)结合了PDMS(聚二甲基硅氧烷)的柔性、疏水性与PMAA(聚丙烯酸)的亲水性、离子交换特性,因而在多个领域具有的应用。在物递送领域,PDMS-b-PMAA被用于制备响应性纳米载体。PMAA部分的酸性基团在不同pH环境下能够发生离子化或去离子化反应,因此能根据环境的变化调节物的释放速度。这种pH响应型的特性使其在肿瘤治疗中有效,因为肿瘤细胞区域通常呈现酸性环境,物能够在该区域迅速释放。此外,PDMS部分的柔性和疏水性使得载体的结构更加稳定,提高了载体的生物相容性和物的携带能力。
2 IIP-PEI/Si O2的合成过程合成复合材料PEI/Si O2的反应过程见参考文献。在PEI大分子接枝到硅胶表面后, 在水中充分膨胀, 对Cr3+产生了较强的螯合力。首先, 发生环氧氯丙烷与PEI链上的氨基的开环反应, 当Na OH加入时, ECH和PEI链的氨基发生脱氯化氢反应。用盐酸溶液去除模板离子, 形成IIP-PEI/Si O2。合成过程如示意图1所示。Cr3+溶液体积:5 m L, PEI 溶液体积: (a) 27.0 m L (b) 28.0 m L (c) 29.0 m L (d) 29.2 m L (e) 29.4 m L (f) 29.6 m L (g) 29.8 m L (h) 30.0 m L (i) 32.0 m L3.3 PEI/SiO 2和 IIP-PEI/Si O2的红外光谱