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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
HPMA 更适合高温、高压、高硬度的水处理系统,具有优良的阻垢、分散和耐高温性能,常用于锅炉、海水淡化和蒸发设备中。 PAA 则适用于常温水处理系统,主要用于一般工业冷却水、反渗透系统等领域,分散和阻垢性能较好,但耐高温性相对较差。
这两种化合物常根据具体应用场景的不同需求来选择和使用。PMAA接枝聚苯乙烯(PSt-g-PMAA)共聚微球的应用: 通过原子转移自由基聚合(ATRP)和定向水解反应得到了苯乙烯单封端聚甲基丙烯酸(St—PMAA)大分子单体,使其与苯乙烯(st)在醇/水混合介质中进行接枝共聚反应,制得了以PSt为核,PMAA为壳,形态规整的聚合物复合微球.FT-IR和^1H-NMR的分析表明:St—PMAA大分子单体的结构明确,电位测定发现复合微球表面带有明显的负电荷,且在pH=5.5左右其Zeta电位可发生显著变化,说明该复合微球具有pH响应性。
实施例6、7、10~12中交联剂的用量分别占原料总质量的10%、5%、15%、20%。经比较可以看出,随着交联剂用量的增加,制备得到p(cpt-maa)纳米凝胶的粒径随之增大,接枝率也有所提升。实施例13还原响应性p(cpt-maa)纳米凝胶-8的制备
将cpt-ss-m(25mg),甲基丙烯酸(475mg),甲叉双丙烯酰胺(55.6mg)和偶氮二异丁腈(16.8mg),加入到干燥的50ml单颈圆底烧瓶中,接着加入40ml无水乙腈,超声使溶解。通氮气0.5小时以除去反应体系中的空气,接着将反应混合物加热至沸腾状态并保持2小时。待反应结束后,收集反应混合物,以1×104转/分钟的转速离心10分钟,得p(cpt-maa)纳米凝胶。接着,加入20ml乙腈,超声分散均匀,离心,重复此操作三次,获得较纯的黄的p(cpt-maa)前纳米凝胶。该方法下cpt-ss-m的接枝率为94.3±1.2%,马尔文粒度仪测得的该纳米凝胶的粒径为423±7nm,电位为-21.5±1.4mv。
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聚乳酸-聚烯丙基丙交酯-b-聚乙二醇-b-聚乳酸-聚烯丙基丙交酯
PLAL-PEG-NH2
Poly(lactide-co-allyl lactide)-b-poly(ethyleneglycol)-Amine LA:AL 50:50聚乳酸-聚烯丙基丙交酯-b-聚乙二醇-氨基
PLAL-PEG-COOH
Poly(lactide-co-allyl lactide)-b-poly(ethyleneglycol)-Acid LA:AL 50:50
聚乳酸-聚已内酯-b-聚乙二醇-氨基PCLA-PEG-MAL
Poly(caprolactone-co-D,L-lactide-)-b-poly(ethyleneglycol)-MAL CL:LA 50:50
聚乳酸-聚已内酯-b-聚乙二醇-马来酰亚胺
PCLA-PEG-COOH
Poly(caprolactone-co-D,L-lactide-)-b-poly(ethyleneglycol)-Acid CL:LA 50:50