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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
分子印迹聚合物是近年发展起来的新型重要分子识别材料,功能单体与模板分子形成稳定的复合物,以使交联聚合后把模板分子的结构固定在聚合物的母体中,产生识别位点。此外,功能单体的用量对聚合物的识别性能有较大的影响,但功能单体一模板分子比例过高时,所制备的聚合物具有更紧密的结构和的耐溶胀性能。因此,模板分子与功能单体的选择对于分子印迹聚合物的制备。2.1 模板分子的选择印迹过程可以形成与模板分子形状及功能基排列互补的孔穴有关,因此研究模板的分子结构对MIP分子识别性能的影响具有重要意义。用小分子芳香族化合物,部分羟基数目及羟基位置不同的羟基苯甲酸化合物为模板分子,采用非共价印迹技术制备了相应的MIP,通过对比研究,探讨了模板分子中作用基团的数目及位置对非共价MIP分子识别能力影响的规律。模板分子中含有较多作用基团有利于得到对模板分子具有高印迹亲和力的印迹聚合物,即得到高印迹效率的MIP。当模板分子中作用基团间能形成分子内氢键时,印迹效率降低。这是由于印迹过程中模板分子的分子内氢键削弱了其与氢键型功能单体丙烯酰胺的结合,从而降低了模板分子的印迹效率。
Poly(methyl methacrylate-b-ε-caprolactone)聚甲基丙烯酸-b-聚已内酯
PMAA-b-PCL
Poly(methyl acrylate-b-caprolactone)
聚甲基丙烯酸-b-聚已内酯
PBd-b-PtBuA
Poly(butadiene(1,2 addition)-b-t-butylacrylate
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开发基于醋酸纤维素(CAA)、羟丙基壳聚糖(HPCS)和氨基修饰的CNCs(CNC-NH2)的可注射多糖水凝胶。结果表明,CNC-NH2具有物理交联和化学交联的双重作用,其力学性能、内部形貌和胶凝时间取决于CNC-NH2的含量。另外,研究发现该水凝胶在生理条件下表现出pH响应特性,在酸性条件下表现出自愈行为,并且具有良好的生物相容性,因此其在实际生物医学应用中展现出巨大潜力。本文以甲基丙烯酸(MAA)为单体,十二烷基硫醇(DDT)为链转移剂,通过自由基聚合得到了水溶性的硫醚端基聚合物配体DDT-PMAA,进一步将配体DDT-PMAA作为稳定剂通过高温共沉淀法制备了水溶性的四氧化三铁磁性纳米颗粒
金属纳米颗粒合成中同时存在“magic”原子逐壳密堆积和价电子壳闭合两种不同的稳定机制, 并揭示了不同金属纳米颗粒之间弱相互作用对其组装行为的调控作用。以硫醇和有机膦配体为保护配体,在同一合成反应中得到了(AuAg)267与(AuAg)45两种纳米团簇,并可形成1:1的**共晶。X-射线单晶衍射揭示了,共晶中的(AuAg)267纳米团簇拥有近乎的球形结构,具多层原子密堆积结构,即Mackay/anti-Mackay堆积的同心原子多壳层结构(1 + 12 + 42 +92 + 120个原子),外层则由高度对称排布的80硫醇配体来稳定。(AuAg)267纳米团簇的自由电子数为187,不具电子闭壳层结构。密度泛函理论计算(DFT)不仅揭示(AuAg)267不存在HOMO-LUMO能隙,而且很好地解释了该金属团簇的紫外可见吸收光谱(表面等离激元共振吸收特征)和电化学行为。共晶中较小尺寸的(AuAg)45团簇则由27个硫醇和6个有机膦配体共保护,具有18价电子闭壳层结构,拥有大的HOMO-LUMO能隙和类似分子特征的紫外可见吸收光谱。