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　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　实施例2cpt-ss-m的制备在氮气气氛下，将喜树碱(0.70g，2mmol)和三光气(0.2g，0.66mmol)共混于50ml无水二氯甲烷中，随后加入4-二甲氨基吡啶(0.73g，6mmol)，搅拌反应1小时。接着将hsema(0.55g，2.5mmol)溶于10ml无水四氢呋喃中，逐滴加入到上述反应液中。室温下反应24小时后，过滤反应混合物，以除去不溶性盐；旋转蒸发除去溶剂。将残余物重新溶解在二氯甲烷中，分别用稀盐酸(100mmol/l)、水、饱和氯化钠溶液分别洗涤两次。收集有机层，并用无水硫酸镁干燥。浓缩上清液，以二氯甲烷/甲醇(200/1，v/v)作为洗脱液，通过二氧化硅硅胶柱分离纯化，获得淡黄的供聚合用的喜树碱单体(cpt-ss-m)。1hnmr(cdcl3，δ，ppm，tms):8.41(s，1h)，8.24(d，1h)，7.95(d，1h)，7.83-7.86(m，1h)，7.67-7.70(m，1h)，7.36(s，1h)，6.08(s，1h)，5.55(s，1h)，5.40(d，2h)，5.31(d，2h)，4.42-4.33(m，4h)，3.07-2.80(m，4h)，2.33-2.12(m，2h)，1.91(s，3h)，1.01(m，3h)。esi-msm/z:计算值为597.13；实测值为597.14[m+h]+。图1为cpt-ss-m的1h-nmr图谱，明了该化合物成功制备。

　　PMA，中文名称为丙烯酸甲酯（MethylMethacrylate），是一种无透明的液体，具有刺激性气味。它是丙烯酸类单体中的重要成员，常用于合成各种聚合物材料。PMA在工业上的应用广泛，尤其是在塑料、涂料、粘合剂等领域具有重要。我们将深入探讨PMA的化学性质及其在不同工业中的具体应用。PMA的化学性质 丙烯酸甲酯具有许多的化学性质，使其成为一种有价值的化工原料。PMA的分子结构中含有一个活泼的双键，这使其在聚合反应中活跃。PMA可以通过自由基聚合、阳离子聚合和阴离子聚合等多种方式进行聚合，生成不同性质的聚合物。

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　　金属纳米颗粒合成中同时存在“magic”原子逐壳密堆积和价电子壳闭合两种不同的稳定机制, 并揭示了不同金属纳米颗粒之间弱相互作用对其组装行为的调控作用。以硫醇和有机膦配体为保护配体，在同一合成反应中得到了(AuAg)267与(AuAg)45两种纳米团簇，并可形成1:1的**共晶。X-射线单晶衍射揭示了，共晶中的(AuAg)267纳米团簇拥有近乎的球形结构，具多层原子密堆积结构，即Mackay/anti-Mackay堆积的同心原子多壳层结构（1 + 12 + 42 +92 + 120个原子），外层则由高度对称排布的80硫醇配体来稳定。(AuAg)267纳米团簇的自由电子数为187，不具电子闭壳层结构。密度泛函理论计算(DFT)不仅揭示(AuAg)267不存在HOMO-LUMO能隙，而且很好地解释了该金属团簇的紫外可见吸收光谱(表面等离激元共振吸收特征)和电化学行为。共晶中较小尺寸的(AuAg)45团簇则由27个硫醇和6个有机膦配体共保护，具有18价电子闭壳层结构，拥有大的HOMO-LUMO能隙和类似分子特征的紫外可见吸收光谱。

　　本发明提供了喜树碱前凝胶，它是包含喜树碱前、甲基丙烯酸、交联剂和引发剂的原料通过聚合制备得到的，其中，所述喜树碱前的结构如式ⅰ所示:进一步地，所述的喜树碱前凝胶满足以下至少一项:

　　所述原料的重量配比为:喜树碱前25～100份、甲基丙烯酸400～475份、交联剂26.3～125份、引发剂11.2～22.2份；

　　优选地，所述原料的重量配比为:喜树碱前50～100份、甲基丙烯酸400～475份、交联剂26.3～125份、引发剂11.2～22.2份；