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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
避免与易燃物接触:PPMA浆料具有易燃性,应远离明火和高温。CNCs基水凝胶的制备方法:
由于长径比小、结构刚性强,CNCs本身缺乏缠结形成机械性能稳定的水凝胶的能力,因此更适合作为增强剂通过表面化学改性或者引入交联网络以获得机械性能稳定的CNCs水凝胶。
具体包括以下两种方法。
1、 物理交联
是通过可逆的物理相互作用(非共价键)结合在一起。用冻融技术制备了CNCs/PVA(聚乙烯醇)复合水凝胶。研究发现,CNCs可以作为成核位点,有利于改善复合水凝胶力学性能和阻隔性能。研究了CNCs表面电荷和长径比对CNCs/PAM(聚丙烯酰胺)复合水凝胶增强能力的影响。结果表明:表面电荷浓度越高,分散性越好,越有利于应力有效的传递;CNCs的长径比越高,越有利于机械加固。
空白胶束载法:将嵌段共聚物先制备成空白胶束溶液,再将物用合适的溶剂溶解加入空白胶束溶液中,平衡一段时间后物进入胶束中,有机相挥发制备聚合物胶束的方法。
指将嵌段共聚物和物溶解在与水混溶的有机溶剂后装入透析袋中用水透析。该法为实验室制备聚合物胶束的常用方法。
通过透析法制备了PNIPAAm-b-PMMA温敏型胶束,胶束载量高达 55%,并在较高的温度下90%的物被释放出来。(PNIPAAm-b-PMMA温敏型胶束在含水介质中透射电镜图象)
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2 活性可控自由基聚合法在聚合体系中引入一种的化合物, 与活性种链自由基进行可逆的链终止或链转移反应, 致其失活变成无增长活性的休眠种, 该休眠种在实验条件下又可分裂成活性链自由基, 由此可建立活性种与休眠种间的动态平衡。这种的动态平衡反应不但能将体系中的自由基浓度控制得很低并抑制其终止, 还可以控制聚合产物的分子量和分子量分布, 实现活性可控自由基聚合。 Su等[17]通过拟活性自由基聚合法合成磺胺甲嘧啶 (SMZ) SSMIP。他们使用化学试剂将引发转移终止剂固定在硅胶表面, 以SMZ作为模板, MAA为功能单体, EDMA为交联剂, 由紫外辐射引发聚合反应。通过液相谱对SMZ进行定量分析, 发现该SSMIP对SMZ具有较好的选择性和较高的柱效率, 检测线性范围为0.1~50μg/mL, 检测限为25ng/mL, 对牛奶样品中SMZ的加标回收率在78%以上。
此外,PS-b-PMAA也可作为吸附剂,吸附水中的金属离子或污染物,广泛应用于水处理、环境保护等领域。由于PMAA部分具有良好的水溶性和离子交换能力,PS-b-PMAA可以有效去除水中的有害物质。在表面改性和涂层技术中,PS-b-PMAA常被用作增强涂层附着力的材料。PS-b-PMAA能够在表面形成致密的聚合物膜,改善材料的耐久性和抗腐蚀性。此类应用在电子产品和防腐材料中尤其重要。