东坑电子硅胶回收厂家电话

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　聚乳酸-聚已内酯-b-聚乙二醇-氨基PCLA-PEG-MAL

　　Poly(caprolactone-co-D,L-lactide-)-b-poly(ethyleneglycol)-MAL  CL:LA  50:50

　　聚乳酸-聚已内酯-b-聚乙二醇-马来酰亚胺

　　PCLA-PEG-COOH

　　Poly(caprolactone-co-D,L-lactide-)-b-poly(ethyleneglycol)-Acid  CL:LA  50:50

　　聚苯乙烯-b-聚丙烯酸铯PS-b-PEOPoly(styrene-b-ethylene oxide)

　　聚苯乙烯-b-聚氧乙烯

　　PS-b-PMAA

　　Poly(styrene-b-methacrylic acid)

　　聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸

　　PS-b-PANa

　　Poly(styrene-b-sodium acrylate)

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　　化学性质:PPMA浆料具有的化学稳定性，耐酸、耐碱、耐腐蚀等特性。它还具有较高的耐热性能，能够在一定范围内承受高温。聚丙烯酸甲酯浆料的主要用途包括:

　　涂料和喷涂剂:PPMA浆料可用于制备高透明度、高光泽度的涂层和喷涂剂，广泛应用于汽车、家具、塑料制品等行业中。

　　粘合剂:PPMA浆料可用作粘合剂，具有较强的粘接力和可塑性，可用于粘接各种材料。

　　本发明提供的喜树碱前凝胶是以喜树碱前和甲基丙烯酸为单体，在交联剂作用下通过交联聚合反应制备得到的pmaa纳米凝胶。pmaa纳米凝胶中存在大量羧基，可抵抗由于负电荷引起的非特异性蛋白质吸附，这使它在正常的生理环境中保持稳定。但其在肿瘤组织或肿瘤细胞的低ph环境中可以迅速缩小至较小的体积，从而容易穿透至深部肿瘤组织并导致物释放。基于此，本发明喜树碱前凝胶具有良好的ph响应性能。另一方面，通过向喜树碱的结构中引入二硫键形成前，并进一步作为单体制备pmaa纳米凝胶，不仅提高了物的稳定性，避免出现物泄漏的情况，而且还使得纳米凝胶具备了氧化还原响应性，赋予其生物降解性和更快的物释放能力。