港口PP胶头回收厂家电话

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　聚苯乙烯-b-聚丙烯酸钠PSSA-b-PEO

　　Poly(4-styrenesulfonic acid-b-ethyleneoxide)

　　聚4-苯乙烯磺酸钠盐-b-聚氧乙烯

　　PSS-b-PMB

　　Poly(styrenesulfonic acid-b-methylbutylene)

　　聚苯乙烯磺酸-b-聚甲基丁烯

　　纳米管印迹膜一种印迹孔穴具有纳米管形状的分子印迹聚合物膜。纳米管印迹膜的出现标志着分子印迹技术又有了新的突破。这种膜的制备是由王小如研究组首先提出的,他们将表面引发原子转移自由基聚合(ATRP)和分子印迹技术原理相结合,使用多孔阳氧化铝薄膜(AAO)为载体膜并用32氨基丙基三甲氧硅烷进行表面硅烷化处理,将ATRP引发剂22溴222甲基丙酰溴接枝到AAO的表面,然后与金属有机催化剂1、4、8、112四氮杂萘并苯铜、功能单体42乙烯吡啶、印迹分子β2雌二醇或孕酮和交联剂的乙腈溶液混合,在N2保护下进行热聚合得到聚合物膜,除去印迹分子后形成纳米管印迹膜。结果表明,这种结合位点具有纳米级的孔径和几纳米管壁厚度的印迹膜对目标分子具有高选择性、高亲和性、高容量和的结合能力。

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　　如图7显示，p(cpt-maa)前纳米凝胶的ic50值在48小时和72小时分别为5.93μg/ml和4.61μg/ml，略高于游离喜树碱的3.65和1.81μg/ml，但无显著性差异。试验例3癌细胞对本发明纳米凝胶的摄取实验

　　通过共聚焦激光扫描显微镜分析评估细胞对纳米凝胶的摄取。将处于对数期的hepg2细胞接种到具有玻璃盖的6孔板中。在2ml培养基中孵育24小时后，加入含有或不含cpt的纳米凝胶并进一步温育4小时。然后除去培养基，用冷pbs(ph7.4)洗涤细胞三次。为了同时评估纳米凝胶的内体逃逸能力，通过lyso-trackerreddnd-99进一步染细胞。然后，用4％多聚甲醛溶液固定细胞，并在clsm下用dapi通道观察纳米凝胶，tritc通道用于内体。

　　单分子层保护的金纳米团簇(Au-MPCs)Au36(SR)24金纳簇

　　聚甲基丙烯酸修饰荧光银纳米团簇((PMAA-AgNCs)

　　磁性的GSH-AgNCs@PEI-Fe3O4

　　丙氨酸纳米银颗粒(CA-AgNPs)

　　近红外荧光金纳米团簇(LAAO-AuNCs)

　　硫普罗宁修饰的荧光金纳米团簇(TPN-Au NCs)