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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
分子印迹复合材料多种材料相互补充使复合材料的性能更为。除了单一的膜材料、磁性材料和纳米材料外,出现了复合材料如纳米膜材料、磁性纳米材料等。这些复合材料已经应用于分子印迹技术中。王小如等合成了纳米管膜应用于化学分离,并用多孔性氧化铝为模具合成了磁性分子印迹纳米线。复合材料为分子印迹的发展提供了新的动力。 自20世纪90年代以来,MIT以其高亲和性、高选择性等优点迅速吸引了各国研究人员的注意并蓬勃发展,至今已被应用于化学、生物、医学、环境等各大学科及其分支领域之中。MIPs的合成与应用方法已日趋成熟,但目前的MIT仍存在着一些问题。如其尚不能将某些类似物分离。随着计算化学与计算机模拟技术的发展,建立完整的单体交联剂库,利用虚拟反应来指导MIPs的合成已成为新的发展趋势。此外,大力发展水相中制备方法,减少对有机溶剂的依赖,不仅能模拟生物体的识别模式,而且会大地扩展其使用范围。
聚异丁烯-b-聚乙烯基吡啶PS-b-PBPA
Poly(styrene-b-benzyl propylacrylate)
聚苯乙烯-b-聚丙烯酸苄酯
PS-b-PBd
Poly(styrene-b-butadiene(1,2 addition))
聚苯乙烯-b-聚丁二烯
PS-PCHMA
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3 结果与讨论3.1 PEI 与 Cr3+的配位过程 根据2.2.1所述过程, 5 m L相同浓度的Cr3+、Pb2+、Zn2+溶液用PEI溶液滴定, 电导率随消耗PEI溶液的体积的变化结果如图1所示。可以得到以下结论: (1) 在滴定过程中, 电导率随着PEI溶液的消耗而增加, 因为PEI与金属离子发生了螯合反应; (2) 对于Cr3+离子, 当PEI消耗量约为30 m L时, 出现了一个明显的转折点; (3) 对于Pb2+和Zn2+离子溶液, 当PEI用量约为20 m L时, 明确的转折点在不同的曲线上出现。说明PEI与Cr3+、Pb2+和Zn2+离子发生了螯合, 化学计量表明PEI和Cr3+比例为6∶1时, 形成了与四个配体的螯合。
实施例12还原响应性p(cpt-maa)纳米凝胶-7的制备将cpt-ss-m(50mg),甲基丙烯酸(450mg),甲叉双丙烯酰胺(125mg)和偶氮二异丁腈(18.8mg),加入到干燥的50ml单颈圆底烧瓶中,接着加入40ml无水乙腈,超声使溶解。通氮气0.5小时以除去反应体系中的空气,接着将反应混合物加热至沸腾状态并保持2小时。待反应结束后,收集反应混合物,以1×104转/分钟的转速离心10分钟,得p(cpt-maa)纳米凝胶。接着,加入20ml乙腈,超声分散均匀,离心,重复此操作三次,获得较纯的黄的p(cpt-maa)前纳米凝胶。该方法下cpt-ss-m的接枝率为95.4±0.9%,马尔文粒度仪测得的该纳米凝胶的粒径为765±3nm,电位为-20.0±1.3mv。