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1826年,法国人涅普斯(J. N. Niepce)最先发现了具有感光性的天然沥青,使用低黏度优质沥青涂覆玻璃板,预干后,置于相机暗盒内,开启曝光窗,经光学镜头长时间曝光后,沥青涂层感光逐渐交联固化,形成潜像,再经溶剂松节油清洗定影,获得最早的沥青成像图案。
1832年,德国人舒柯(G. Suckow)发现重铬酸盐在明胶等有机物中具有感光性。
1839年,英国人庞顿(S. M. Ponton)首先将重铬酸盐用于照相研究。
1850年,英国人塔尔博特(F. Talbot)将重铬酸盐与明胶混合后涂在钢板上制作照相凹版获得了成功。
硅表面分子印迹聚合物 (SSMIP) 是在硅材料表面制备的对目标分子具有高选择性和高吸附量的分子印迹聚合物。SSMIP一般具有以下优势: (1) 通过硅胶能够得到尺寸和形状可控、单分散性好的MIP; (2) 硅材料的力学稳定性和热稳定性较好, 能够提高MIP的力学性能和耐用性; (3) 由于印迹只发生在硅材料的表面, 可以有效减少包埋现象, 有利于模板分子的洗脱和识别, 提高了模板分子的利用率[1,2]。因此, SSMIP引起了研究者的广泛关注。1949年Dickey[3]用染料甲基橙作为模板分子, 制得对甲基橙吸附能力比乙基橙高2倍的吸附材料, 这项研究揭开了SSMIP的崭新一页。至今, 关于SSMIP的研究文献达上千篇, 近年来更是呈现急剧增加的态势。本文着重综述SSMIP制备方法的研究进展, 并简要介绍SSMIP的应用情况。
聚醋酸乙烯酯接枝聚苯乙烯(PVAc-g-PSt)复合微球:通过链转移自由基聚合和端基置换反应制备了苯乙烯单封端的 PVAc大分子单体,用凝胶渗透谱(GPC),傅里叶变换红外光谱(FTIR)等对大分子单体的分子量,分子量分布与结构组成进行了测定,发现PVAc 大分子单体的结构明确,分子量在104左右.以得到的PVAc大分子单体为反应性分散稳定剂,一定比例的乙醇/水为反应介质,采用分散共聚法制得了核为聚 苯乙烯(PSt),壳为聚醋酸乙烯酯(PVAc)大分子链的聚醋酸乙烯酯接枝聚苯乙烯(PVAc-g-PSt)核壳结构复合微球.
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进一步地,所述的喜树碱前凝胶满足以下至少一项:所述反应溶剂为乙腈;
所述保护气氛为氮气氛;
将反应混合物加热至沸腾状态进行反应;
反应时间为2小时;
待反应结束后,收集反应混合物,离心,即得喜树碱前凝胶;
优选地,以1×104转/分钟的转速离心10分钟;
还包含如下纯化步骤:取喜树碱前凝胶,加入乙腈,超声分散均匀,离心;
3 分子印迹技术的膜和材料制备方面的应用3.1 新的膜制备技术 (1)多层自组装膜 通过化合物分子之间不同的作用力结合而成。这种作用力主要包括共价或配位作用、氢键、静电力、疏水作用力、π2π堆积作用以及阳离子π吸附作用。多层自组装印迹膜是在印迹聚合物表面通过不同的作用力结合形成膜,然后反复在聚合物混合溶液中进行自组装,形成多层膜结构,将印迹分子洗脱,得到多层自组装印迹膜。自组装方法包括共价(或配位)自组装、氢键自组装、静电自组装。张希等报道了用光交联法和多层膜自组装方法制备的以5、10、15、202四甲基氨基苯21H、23H卟琳为印迹分子的多层自组装印迹膜,与其他方法制备的印迹膜相比具有较高的识别能力。