高明POM水口回收电话

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　2) 升温至210~300℃，水解3~50小时；3) 水解液冷却、卸压，再在常压下蒸去水份、真空干燥后得到聚甲基丙烯酸固体产物。

　　上述方法在水解过程中不需加入催化剂，过程简单、绿，水解产物在纺织工业中可用作纤维纺织过程的保护用胶黏剂，与其它树脂共混也可制备离子交换树脂。

　　聚丙烯酸甲酯（简称PPMA）是一种聚合物浆料，具有以下性质:

　　物理性质:聚丙烯酸甲酯浆料是无、透明且具有高流动性的液体。它在常温下具有较低的黏度，可方便地进行喷涂、涂覆和注射成型等工艺。

　　聚异丁烯-b-聚甲基丙烯酸

　　PS-b-PAMD

　　Poly(styrene-b-acrylamide)聚苯乙烯-b-聚丙烯酰胺

　　PS-b-PAA

　　Poly(styrene-b-acrylic acid)

　　聚苯乙烯-b-聚丙烯酸

　　PS-b-PACs

　　Poly(styrene-b-cesium acrylate)

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　　聚丁二烯-b-聚丙烯酸丁酯PBd-b-PMMA

　　Poly(butadiene(1,2 addition)-b-methylmethacrylate)

　　聚丁二烯-b-聚甲基丙烯酸

　　PBd-b-PCL

　　Poly(butadiene(1,4addition)-b-ε-caprolactone)

　　聚丁二烯-b-聚已内酯

　　进一步优选地，所述原料的重量配比为:喜树碱前50份、甲基丙烯酸450份、交联剂55.6份、引发剂16.8份；喜树碱前:甲基丙烯酸的质量比为1:(4～19)；

　　喜树碱前:交联剂的质量比为50:(26.3～125)；

　　喜树碱前:引发剂的质量比为50:(8.4～33.6)。

　　进一步地，所述交联剂选自甲叉双丙烯酰胺、n,n'-双(丙烯酰)胱胺中一种或两种。