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　　1942年，英国Eisler发明印刷电路板 [39]，重铬酸盐感光材料作为光敏抗蚀剂用于制造印刷线路板。重铬酸在紫外光作用下还原成三价铬离子，三价铬离子可和水溶性聚合物中的羰基、胺基、羟基等作用形成不溶的配位络合物。

　　1943年，美国杜邦公司提交了世界第一份有关光引发剂的发明专利，尽管这种二硫代氨基甲酸酯化合物感光活性较低，后来也未能转化为实际应用，但确实开启了一种全新的聚合物材料加工技术。

　　1948年，美国专利中出现第一个光固化油墨配方和实施技术的专利。

　　1949年德国Kalle公司首先开发成功紫外正性光刻胶。

　　1954年，由柯达公司的明斯克(L. M. Minsk)等人研究成功的光敏剂增感的聚乙烯醇肉桂酸酯成为第一个光固化性能的光刻胶 [39]，牌号KPR。先用于印刷工业，后用于电子工业。

　　1958年，柯达公司发展出了叠氮-橡胶系的负性光刻胶 ，牌号为KMER和KTFR。

　　在不同条件下合成出离子印迹材料IIP-PEI/SiO2, 以及主要的印迹条件, 如模板离子的浓度, 交联剂的比率等的影响。2.4 IIP-PEI/SiO2对Cr3+的静态吸附 2.4.1 动力吸附曲线的测定 在锥形瓶中加入0.2 g的IIP-PEI/SiO 2及100 m L 100 mg·L-1 (C0) 的Cr3+溶液。将锥形瓶放入到预设好温度及p H的振荡器中。在不同的时间测定Cr3+的浓度 (Ct) 。按照式 (1) 计算吸附量:

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　　试验例2体外细胞毒性测试选择人肝癌细胞hepg2和成纤维细胞l929以研究纳米凝胶的细胞毒性。将细胞在含有10％fbs和抗生素(青霉素和链霉素，100u/ml)的dmem培养基中，于37℃在含有5％co2的潮湿气氛中温育。

　　使用mtt测定法在l929细胞和hepg2细胞上测试细胞毒性。简而言之，将对数期的细胞接种到96孔板中。在100μldmem中孵育24小时后，将在100μldmem中具有不同浓度的一系列p(cpt-maa)前纳米凝胶(根据实施例6制备)加入每个孔中并进一步孵育24,48和72小时。在预定时间点，用200μl新鲜dmem替换培养基，加入20μlmtt溶液(5mg/ml，在生理盐水中)。进一步温育4小时后，弃去培养基并用150μldmso替换。摇动后，通过酶标仪在570nm处测量每个孔的光密度(od)。结果在六个单独的实验中取平均值，并表示为平均值±sd。细胞活力(cv)计算如下等式:cv(％)＝od(处理的)/od(未处理的)×100％。此外，如上所述评估空白纳米凝胶(根据实施例16制备)的细胞毒性。

　　PS-P4VP-PEO

　　Poly(styrene-b-4-vinyl pyridine-b-ethyleneoxide)

　　PAA-NH2Poly(acrylic acid) Function NH2

　　Poly(acrylic acid) Function OH

　　HS-PCL-COOH

　　Thiol–Carboxy–terminatedPoly(ε-caprolactone)