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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
PBd-PS-PBd
Polybutadiene(1,4-addition)-b-Polystyrene-b-Polybutadiene(1,4-addition)
PEO-PS-PEO
Poly(ethylene oxide-b-styrene-b-ethyleneoxide)PEO-PLA-PEO
Poly(ethylene oxide-b-lactide-b-ethyleneoxide)
PMAA-PCL-SHThiol end functionalized Poly(methacrylicacid-b-e-caprolactone)
PEO-PLA-NH2
Amino Terminated Poly(ethyleneoxide-b-lactide)
PMMA 的发展距今已有一百多年历史,1877 年 MMA 的聚合性始被发现,但直到 1933 年德国化学家 Otto Rohm 才将 PMMA 商品化,并以 Plexiglas 为注册商标行销全欧洲。后来随着其他厂商的进入,PMMA 也出现了许多商品名,常见的名称有 Lucite、Perspex、Optix(Plaskolite)和 Altuglas
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物理结合的胶束释特点物理包埋法制备的胶束常常通过扩散作用释。一般来说,物理包埋法制备的胶束比化学结合法制备的胶束释更快,释速度与3 个因素有关:
(1)物与疏水核的相容性良好的胶束核与物相容性可明显地延缓物的释放。将PEO-b-P(Asp) 疏水核引入饱和脂肪酸,结果包载的脂肪族物两性霉素B 的溶血性降低,意味着物的释放速度变小。
(2)氢键作用力胶束核与物之间具有强的氢键作用力也可以延缓物释放。制备了PDLLA 区含有游离羧基的PEO-PDLLA 胶束,并发现随着游离羧基浓度提高,物载量提高而释速率降低,可能是因为胶束核和物的氢键作用力增强所致。
利用树状聚合物单分子制备胶束树状聚合物是两亲性分子,表面亲水,内部疏水,作用类似于胶束,每个胶束由单分子树状聚合物构成,因而称为单分子胶束。树状聚合物具有以下优点:能在较大的范围内和多种溶剂中保持分散状态,不聚集,不受临界胶束浓度的影响。以甲氨蝶呤(MTX) 为模型物,研究了聚酰胺-胺型(PAMAM)树状大分子与MTX的复合及体外释放。该复合物在pH = 7.4 ,10 m mol/L Tris-HCl中稳定,表现出明显的缓释效果。当溶液中的离子强度增加时,会破坏PAMAM-MTX复合物的稳定性,缓释作用部分或失去, 说明PAMAM树状大分子与MTX之间的相互作用属于静电作用。