石排GPPS塑料回收多少钱一吨

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　Poly(4-vinyl pyridine-b-methylmethacrylate)P2VN-PCL

　　Poly(2-vinyl pyridine-b-ε-caprolactone)

　　PPO-PCL

　　Poly (propylene oxide-b-ε-caprolactone)

　　PDMS-PnBuA

　　Poly(dimethylsiloxane-b-n-butyl acrylate)PDMS-PtBuA

　　PMA在医疗领域的应用也日益广泛。由于其制成的聚合物材料具有良好的生物相容性和透明度，PMA被用于制造多种医疗器械和用品，如隐形眼镜、牙科填充材料和人工关节等。是在隐形眼镜的制造中，PMA制成的镜片具有的透氧性和舒适性，为用户提供了的佩戴体验。在电子工业中，PMA被用作电器元件的保护涂层。其的缘性能和耐化学腐蚀性，使得PMA成为电子元件保护涂层的理想选择。通过在电路板和其他电子元件表面涂覆PMA，可以有效环境因素对电子元件的损害，延长其使用寿命。

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　　HS-PCL-OHThiol-Hydroxy-terminatedpoly(ε-caprolactone)NH2-PLA-OH

　　Amino-Hydroxy terminated polylactide

　　NH2-PCL-OH

　　Amino-Hydroxy terminatedPoly(ε-caprolactone)

　　本发明提供了喜树碱前凝胶，它是包含喜树碱前、甲基丙烯酸、交联剂和引发剂的原料通过聚合制备得到的，其中，所述喜树碱前的结构如式ⅰ所示:进一步地，所述的喜树碱前凝胶满足以下至少一项:

　　所述原料的重量配比为:喜树碱前25～100份、甲基丙烯酸400～475份、交联剂26.3～125份、引发剂11.2～22.2份；

　　优选地，所述原料的重量配比为:喜树碱前50～100份、甲基丙烯酸400～475份、交联剂26.3～125份、引发剂11.2～22.2份；