濠江PC塑胶原料回收价格

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　P4VP-PS- P4VP

　　Poly(4-vinyl pyridine-b-styrene-b-4-vinylpyridine)

　　PS-PBd-PMMAPoly(styrene-b-butadiene-b-methylmethacrylate)

　　PS-PBd-2VP

　　Poly(styrene-b-butadiene-b-2-vinylpyridine)

　　该纳米凝胶的谷胱甘肽还原响应性能的表征结果如图4所示。可以发现，用10mmgsh处理48h后，p(cpt-maa)前纳米凝胶的蓝荧光消失，表明cpt可以被gsh刺激释放。而非还原响应的p(cpt-maa)纳米凝胶相同处理后，蓝荧光没有消失。此外，通过hplc分析与10mmgsh孵育后的p(cpt-maa)前纳米凝胶的介质，可以发现与游离cpt相同保留时间的峰出现，表明从p(cpt-maa)前纳米凝胶中释放出cpt。这与cpt-ss-m与10mmgsh孵育时的现象相同。表明了该p(cpt-maa)前纳米凝胶具有良好的谷胱甘肽还原性能。

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　　Poly(methyl methacrylate-b-methacrylicacid)聚甲基丙烯酸甲酯-聚甲基丙烯酸PtBMA-b-PEO

　　Poly(t-butyl methacrylate-b-ethylene oxide)

　　聚甲基丙烯酸叔丁酯-b-聚氧乙烯

　　PMMA-b-PAA

　　Poly(methyl methacrylate-b-Acrylic Acid)

　　利用树状聚合物单分子制备胶束树状聚合物是两亲性分子，表面亲水，内部疏水，作用类似于胶束，每个胶束由单分子树状聚合物构成，因而称为单分子胶束。树状聚合物具有以下优点:能在较大的范围内和多种溶剂中保持分散状态，不聚集，不受临界胶束浓度的影响。以甲氨蝶呤(MTX) 为模型物，研究了聚酰胺-胺型(PAMAM)树状大分子与MTX的复合及体外释放。该复合物在pH = 7.4 ，10 m mol/L Tris-HCl中稳定,表现出明显的缓释效果。当溶液中的离子强度增加时,会破坏PAMAM-MTX复合物的稳定性,缓释作用部分或失去, 说明PAMAM树状大分子与MTX之间的相互作用属于静电作用。