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1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
He等[6]以3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷 (KH-570) 修饰的纳米硅为载体材料, 甲基丙烯酸 (MAA) 为功能单体, 乙二醇二甲基丙烯酸酯 (EGDMA) 为交联剂, 通过表面接枝共聚法制备了天麻素 (GAS) SSMIP。该SSMIP对GAS具有良好的选择性和较快的结合动力学, 对竞争底物的选择性系数为3.455, 吸附在40min可达到平衡。Gao等[7]以丙基三甲氧基硅烷 (MPS) 作为媒介物, 首次将功能性高分子聚甲基丙烯酸 (PMAA) 接枝到微米级的硅胶粒子表面 (PMAA/SiO2) , 以肌酐为模板, 乙二醇缩水甘油醚 (EGGE) 为交联剂, 通过PMAA和肌酸酐分子间的氢键和静电作用制备肌酐印迹材料MIP-PMAA/SiO2。实验结果表明:MIP-PMAA/SiO2对肌酸酐具有良好的亲和力和较高的识别选择性;而PMAA/SiO2粒子对肌酸酐几乎不存在选择性识别。在碱性条件下PMAA/SiO2对肌酐和肌酸的选择性系数分别为1.23和1.30;而MIP-PMAA/SiO2对肌酐和肌酸的选择性系数显著增大, 分别为11.64和12.87, 显示出对肌酸酐的识别选择性和亲和力。
P2VP-b-PMAAPoly(2-vinyl pyridine-b-methyl acrylicacid)
聚乙烯基吡啶-b-聚甲基丙烯酸
P2VPQ-b-PEO
Poly(N-methyl 2-vinyl pyridiniumiodide-b-ethylene oxide)
聚N-甲基乙烯基吡啶碘化物-b-聚氧乙烯
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其次,通过在种子聚合单体溶胀阶段加入致孔剂甲苯,制备出多孔聚苯乙烯微球,探讨了交联度和甲苯用量对微球表面孔径大小和分布的影响;用不同发射波长的量子点对多孔微球进行荧光编码,制备出量子点荧光编码微球,并对多孔荧光微球荧光性能进行了相应的表征;用多孔的量子点编码荧光微球进行免疫反应实验,并通过光纤光谱仪对免疫反应后微球的荧光光谱进行扫描分析.瑞禧分享-笼空状磺化聚苯乙烯微球的研究:利用高能射线辐射引发RAFT聚合和接枝反应的方法,成功制备了表面接枝聚丙烯酸(PAA)的笼空状磺化聚苯乙烯基微球.当环境p H改变时,引起表面PAA分子链构象变化,从而对笼空状微球表面的孔洞尺寸进行调控.当此p H响应性多孔微球负载罗丹明B(Rh B)后,Rh B的释放速率随环境p H的改变而改变.当p H为5时,Rh B在48 h内累计释放率由p H为2时的21%增加至89%.继续升高p H值时,Rh B的释放速率则又下降.
将1.5 g的IIP-PEI/Si O2装入玻璃柱 (直径为8 mm) , 柱体积为2 m L。配制初始浓度为1000 mg/L的Cr3+离子溶液, 使其逐渐通过玻璃柱, 速度为每小时5床体积 (5 BV/h) 。收集1个床体积的流出液, 测定流出液Cr3+含量, 绘制动态吸附曲线, 计算渗透吸附量和饱和吸附量。采用0.01 mol/L的HCl溶液作为解吸剂对吸附剂进行解吸, 解吸剂的流速为1 BV/h。收集1BV/h的流出液, 测定其Cr3+浓度, 绘制解吸曲线。