企石PBT塑胶水口料回收行情

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　碳纳米管负载金纳米团簇Au15(SR)13小尺寸金纳米团簇

　　Cd1Au14(StBu)12合金纳米团簇

　　金刚烷硫醇保护的Au40（S-Adm）22纳米团簇

　　γ-环糊精-金属有机框架（γ-CD-MOF）

　　Au25(SR)18不同配体不同数量金纳米团簇

　　二氧化硅-BPEI-金纳米团簇

　　Au38(SR)24金团簇

　　Poly(styrene-b-cyclohexyl methacrylate)聚苯乙烯-b-甲基丙烯酸环己酯

　　PS-b-PEMA

　　Poly(styrene-b-ethyl methacrylate)

　　聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸乙酯

　　PS-b-PLA

　　Poly(styrene-b-lactide)

　　企石PBT塑胶水口料回收行情

　　Poly(glutamic acid)-b-poly(ethyleneglycol)-b-poly(glutamic acid)聚谷氨酸-b-聚乙二醇-b-聚谷氨酸mPEG-PLCL

　　Poly(lactide-co-caprolactone)-b-poly(ethylene glycol)  LA:CL 50:50

　　聚乙二醇-b-聚乳酸-聚已内酯

　　指将物溶解在与水不混溶的有机溶剂中，聚合物可以溶解在有机相或水相，在搅拌的条件下将有机相加入水相，然后抽真空将有机相挥发。4、 溶剂挥发法

　　指将物和聚合物溶解于易挥发的有机溶剂中，再将有机溶剂挥去，形成聚合物物膜,然后通过剧烈搅拌将膜重新分散在水中。

　　指将物和聚合物溶于可用于冻干的有机溶剂(一般是叔丁醇) 后，再与水混合，冻干后聚合物胶束分散于等渗的水性介质中。