茶山PS塑料回收厂家

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　聚苯乙烯-b-聚丙烯酸铯PS-b-PEOPoly(styrene-b-ethylene oxide)

　　聚苯乙烯-b-聚氧乙烯

　　PS-b-PMAA

　　Poly(styrene-b-methacrylic acid)

　　聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸

　　PS-b-PANa

　　Poly(styrene-b-sodium acrylate)

　　填充剂和改性剂:PPMA浆料可以通过添加填料和改性剂来调整其性能，用于增强材料的强度和刚度。聚丙烯酸甲酯浆料的制法一般是通过聚合反应来合成。将丙烯酸甲酯单体与引发剂和助剂等混合，然后进行聚合反应，得到聚丙烯酸甲酯浆料。

　　避免接触皮肤和眼睛:PPMA浆料具有刺激性，可能引起过敏反应。在操作过程中要使用个人防护装备，如手套、护目镜等。

　　避免长时间吸入气体:聚合过程中产生的气体可能对呼吸系统有害，应保持通风良好的工作环境，并佩戴适当的呼吸防护设备。

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　　试验例2体外细胞毒性测试选择人肝癌细胞hepg2和成纤维细胞l929以研究纳米凝胶的细胞毒性。将细胞在含有10％fbs和抗生素(青霉素和链霉素，100u/ml)的dmem培养基中，于37℃在含有5％co2的潮湿气氛中温育。

　　使用mtt测定法在l929细胞和hepg2细胞上测试细胞毒性。简而言之，将对数期的细胞接种到96孔板中。在100μldmem中孵育24小时后，将在100μldmem中具有不同浓度的一系列p(cpt-maa)前纳米凝胶(根据实施例6制备)加入每个孔中并进一步孵育24,48和72小时。在预定时间点，用200μl新鲜dmem替换培养基，加入20μlmtt溶液(5mg/ml，在生理盐水中)。进一步温育4小时后，弃去培养基并用150μldmso替换。摇动后，通过酶标仪在570nm处测量每个孔的光密度(od)。结果在六个单独的实验中取平均值，并表示为平均值±sd。细胞活力(cv)计算如下等式:cv(％)＝od(处理的)/od(未处理的)×100％。此外，如上所述评估空白纳米凝胶(根据实施例16制备)的细胞毒性。

　　聚丁二烯-b-聚乙烯基吡啶PIB-b-PtBuMA

　　Poly(isobutylene-b-t-butyl methacrylate)

　　聚异丁烯-b-聚甲基丙烯酸丁酯

　　PIB-b-PMMA

　　Poly(isobutylene-b-methyl methacrylate)

　　聚异丁烯-b-聚甲基丙烯酸