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将10 g硅胶颗粒在甲烷磺酸溶液中浸泡24 h后用丙酮和蒸馏水冲洗, 得到活化硅胶颗粒。然后, 将15 m L交联剂TTS和10 g的活化硅胶颗粒加入到200 m L体积比为1∶1的乙醇和水混合溶液中, 在50℃下反应24 h, 得到表面修饰的TTS-Si O2。3 g的TTS-Si O2和10 g的MAA加入200 m L水溶液中, 并加入引发剂过硫酸铵, 通入氮气, 并在70℃下反应7 h。获得的产物用乙醇洗去未结合的MAA。最后, 在60℃下干燥4 h得到终产物PMAA/Si O2。而PAM/Si O2的获得与上述方法类似, 只是在反应中将10 g MAA换成AM。
在物递送方面,PMAA-PCL-SH通过巯基与物分子进行共价结合,能够实现物的靶向传递和缓释。PMAA基团增强了材料的水溶性,有助于物的溶解和吸收。该材料还可通过改变PMAA的分子量或比例来调节物的释放速率,从而实现更为的物管理。此外,PMAA-PCL-SH也可用于环境保护和水处理,利用其巯基吸附水中的重金属离子和有机污染物。其表面功能化特性使其成为的吸附剂。厂家:西安瑞禧生物状态:固体/粉末/溶液
在本文中, 成功地实现了在聚乙烯亚胺硅胶颗粒的表面印迹上重金属离子, 获得了新型离子印迹材料IIP-PEI/Si O2, 同时一种新的表面分子印迹技术得以发展。印迹空穴分布在薄的印迹聚合物层, 这样对模板离子扩散的阻碍会更小。因此, 对于模板离子而言能够更容易、更快地与识别位点结合。IIP-PEI/Si O2对模板离子具有很强的亲和力, 动态和静态吸附量也比PEI/Si O2的吸附量高出两倍。IIP-PEI/Si O2表现出对模板离子的选择性。另外, 吸附在IIP-PEI/Si O2上的离子 很容易被HCl洗脱 , 这对于IIP-PEI/Si O2的再生和再利用是十分有利的。在本研究中应用了这项新的表面分子 印迹技术, 不仅使得实验步骤简单了, 而且对在高力学性能下与无机载体粒子的特定区域结合的模板具有高的亲和力。这项新的表面分子印迹技术提供了一条制备高性能吸附和分离材料的新途径。
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分子印迹纳米材料纳米材料是指三维尺度中有一维以上处于纳米量级(1~100nm),即由尺寸介于原子、分子和宏观体系之间的纳米粒子所组成的新一代材料。纳米材料与传统材料相比有较低的熔点、较小的体积、巨大的比表面积、强化学活性和催化活性,此外其还有的比热、光学、电学、磁学、力学等一系列优良的性能。 分子印迹技术利用纳米材料巨大的比表面积制备印迹聚合物,可以充分地暴露印迹识别位点,大大减少吸附过程当中的传质阻力,增强吸附过程的动力学特征,进而提高吸附量。纳米分子印迹聚合物的形式主要为纳米粒子、纳米管和纳米膜。张忠平等以硅为基质通过溶胶凝胶反应分别制得了对TNT有特异性识别的纳米粒子。其制得的纳米粒印迹材料的印迹位点密度大约为普通印迹材料的5倍。其动力学研究表面,纳米印迹粒子达到平衡所用的时间也只为普通印迹材料的1/3。
PS-PEtA-PS
Poly(styrene-b-ethyl acrylate-b-styrene)
PS-PMMA-PSPoly(styrene-b-methylmethacrylate-b-styrene)
PS-PEO-PS
Poly(styrene-b-ethylene oxide-b-styrene)