桥头赛钢塑料长期回收

　　20世纪90年代中期，美国明尼苏达大学纳米结构实验室提出了一种叫做“纳米压印成像”（nanoimprint lithography）的新技术。

　　1996年，欧洲主要成立了4个极紫外光刻相关研究项目，约110个研究单位参与，其中比较重要的项目为MEDEA和MORE MOORE。

　　1997年，Intel公司成立了包括AMD、Motorola、Micron、Infineon和IBM的EUV LLC，并与由LBNL、LLNL和SNL组成的国家技术实验室（VNL）签订了极紫外光刻联合研发协议（CRADA）。

　　1998年，日本开始极紫外光刻研究工作，并于2002年6月成立极紫外光刻系统研究协会（EUVA） 。

　　1962年，中国北京化工厂接受中国科学院半导体研究所的委托，着手研究光刻胶，以吡啶为原料，采用热法工艺，制成聚乙烯醇肉桂酸酯胶。

　　1967年，中国第一个KPR型负性光刻胶投产。

　　1970年，103B型、106型两种负胶投产，环化橡胶系负胶BN-302、BN-303也相继开发成功。

　　Poly(2-vinyl naphthalene-b- n-butylacrylate)P2VN-PMMA

　　Poly(2-vinyl naphthalene-b- methylmethacrylate)

　　P2VP-PMMA

　　Poly(2-vinyl pyridine-b-methylmethacrylate)

　　P4VP-PMMA

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　　Poly(isobutylene-b-acrylic acid)聚异丁烯-b-聚丙烯酸PIB-b-PEO

　　Poly(isobutylene-b-ethylene oxide)

　　聚异丁烯-b-聚氧乙烯

　　PIB-b-PMAA

　　Poly(isobutylene-b-methacrylic acid)

　　Co-AuNCs ABEI@ Oxi-Dex纳米复合材料[Au8Ag57(Dppp)4(C6H11S)32Cl2]Cl三维（3D）八聚体结构

　　(ATT)保护的AuNCs

　　蛋氨酸保护的AuNCs

　　酶-金属亚纳米团簇复合物

　　脂肪酶-钯亚纳米团簇复合催化剂（0.8Pd/CALB-Pluronic）

　　膜分离技术在水处理、化工、医疗等领域具有广泛的用途。本文以聚砜(PSF)膜为研究对象,将6-葡萄酸内酯和聚甲基丙烯酸固定在PSF膜表面,分别制备了一种抗污染膜和一种离子交换膜,并对膜的对蛋白吸附性能进行了研究。