光明收购PC塑料回收厂家电话

　　环化橡胶型光刻胶:属于聚烃类——双叠氮系光刻胶。这种胶是将天然橡胶溶解后，用环化剂环化制备而成的。一般来说，橡胶具有较好的耐腐蚀性，但是它的感光活性很差。橡胶的分子量在数十万以上，因此溶解性甚低，无论在光刻胶的配制还是显影过程中都有很大困难。因此无法直接采用橡胶为原料配制光刻胶。这一类光刻胶的重要组成部分为交联剂，又称架桥剂，可以起到光化学固化作用，依赖于带有双感光性官能团的交联剂参加反应，交联剂曝光后产生双自由基，它和聚烃类树脂相作用，在聚合物分子链之间形成桥键，变为三维结构的不溶性物质，这种光化学架桥交联反应可用下式表示:

　　式中，C为交联剂；P为聚合物。

　　7.2 交联反应的物料比在环氧氯丙烷与PEI上氨基的氢原子发生交联反应。交联剂ECH与IIP-PEI/Si O2氨基的H原子的摩尔比通过改变ECH的用量变化, 制得具有不同孔穴结构的不同印迹材料IIP-PEI/SiO 2。IIP-PEI/Si O2上氨基的H原子总量即为N原子数量, 因为在PEI分子中伯胺基、仲胺基、叔胺基的比例为1∶2∶1。因此, ECH与氨基中H原子的摩尔比即为ECH与N原子的摩尔比。图10表明了饱和吸附量和ECH与N原子摩尔比之间的关系。

　　在本文中, 成功地实现了在聚乙烯亚胺硅胶颗粒的表面印迹上重金属离子, 获得了新型离子印迹材料IIP-PEI/Si O2, 同时一种新的表面分子印迹技术得以发展。印迹空穴分布在薄的印迹聚合物层, 这样对模板离子扩散的阻碍会更小。因此, 对于模板离子而言能够更容易、更快地与识别位点结合。IIP-PEI/Si O2对模板离子具有很强的亲和力, 动态和静态吸附量也比PEI/Si O2的吸附量高出两倍。IIP-PEI/Si O2表现出对模板离子的选择性。另外, 吸附在IIP-PEI/Si O2上的离子 很容易被HCl洗脱 , 这对于IIP-PEI/Si O2的再生和再利用是十分有利的。在本研究中应用了这项新的表面分子 印迹技术, 不仅使得实验步骤简单了, 而且对在高力学性能下与无机载体粒子的特定区域结合的模板具有高的亲和力。这项新的表面分子印迹技术提供了一条制备高性能吸附和分离材料的新途径。

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　　Yuan等[14]首先将MAA接枝聚合到硅胶的表面, 然后以苯酚为模板、EGGE为交联剂制备苯酚SSMIP。实验结果表明, 该SSMIP的饱和结合量为160mg/g, 对邻甲酚和氯酚的选择性系数分别高达22和23。杨挺等[15]以3- (异丁烯酰氧) 丙基三甲氧基硅烷为媒介, 将PMAA偶合接枝到硅胶表面。以克仑特罗为模板分子, MAA为单体, EGGE为交联剂, 在甲醇/水溶液中对接枝在硅胶表面的PMAA大分子链进行印迹, 制备了克仑特罗SSMIP。该SSMIP对克仑特罗具有特异的识别选择性、优良的结合亲和性及洗脱性, 吸附在20min时能达到平衡, 饱和吸附量为15.8mg/g。

　　聚丙烯酸-b-聚丙烯酰胺PAA-PMMAPoly(Acrylic Acid-B-Methyl Methacrylate)

　　聚丙烯酸-b-聚甲基丙烯酸甲酯

　　PAA-PIPA

　　Poly(acrylic acid-b-N-isopropylacrylamide)

　　聚丙烯酸-b-聚N-异丙基丙烯酰胺