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　　环化橡胶型光刻胶:属于聚烃类——双叠氮系光刻胶。这种胶是将天然橡胶溶解后，用环化剂环化制备而成的。一般来说，橡胶具有较好的耐腐蚀性，但是它的感光活性很差。橡胶的分子量在数十万以上，因此溶解性甚低，无论在光刻胶的配制还是显影过程中都有很大困难。因此无法直接采用橡胶为原料配制光刻胶。这一类光刻胶的重要组成部分为交联剂，又称架桥剂，可以起到光化学固化作用，依赖于带有双感光性官能团的交联剂参加反应，交联剂曝光后产生双自由基，它和聚烃类树脂相作用，在聚合物分子链之间形成桥键，变为三维结构的不溶性物质，这种光化学架桥交联反应可用下式表示:

　　式中，C为交联剂；P为聚合物。

　　聚乙交酯-b-聚乙二醇-聚乙交酯PS-b-PDLLA

　　Poly(styrene)-b-poly(D,L-lactide)

　　聚苯乙烯-b-DL型聚乳酸

　　PS-b-PLLA

　　Poly(styrene)-b-poly(L-lactide)

　　聚苯乙烯-b-L型聚乳酸

　　mPEG-PEI

　　PS-P4VP-PEO

　　Poly(styrene-b-4-vinyl pyridine-b-ethyleneoxide)

　　PAA-NH2Poly(acrylic acid) Function NH2

　　Poly(acrylic acid) Function OH

　　HS-PCL-COOH

　　Thiol–Carboxy–terminatedPoly(ε-caprolactone)

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　　在本文中, 成功地实现了在聚乙烯亚胺硅胶颗粒的表面印迹上重金属离子, 获得了新型离子印迹材料IIP-PEI/Si O2, 同时一种新的表面分子印迹技术得以发展。印迹空穴分布在薄的印迹聚合物层, 这样对模板离子扩散的阻碍会更小。因此, 对于模板离子而言能够更容易、更快地与识别位点结合。IIP-PEI/Si O2对模板离子具有很强的亲和力, 动态和静态吸附量也比PEI/Si O2的吸附量高出两倍。IIP-PEI/Si O2表现出对模板离子的选择性。另外, 吸附在IIP-PEI/Si O2上的离子 很容易被HCl洗脱 , 这对于IIP-PEI/Si O2的再生和再利用是十分有利的。在本研究中应用了这项新的表面分子 印迹技术, 不仅使得实验步骤简单了, 而且对在高力学性能下与无机载体粒子的特定区域结合的模板具有高的亲和力。这项新的表面分子印迹技术提供了一条制备高性能吸附和分离材料的新途径。

　　PMA（丙烯酸甲酯）作为一种重要的有机化学物质，具有的化学性质和广泛的应用领域。从塑料、涂料到粘合剂、医疗器械，PMA在各个工业领域都发挥着重要作用。其的耐候性、耐化学腐蚀性和生物相容性，使得PMA基材料成为高性能和材料的重要选择。随着技术的不断进步和应用的不断拓展，PMA的市场前景将更加广阔，成为未来工业发展的重要推动力。通过深入了解PMA的化学性质及其应用，我们可以地开发和利用这一宝贵的化工资源，为各行各业的发展提供有力支持。