惠东塑料废料回收公司
1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
化学性质:PPMA浆料具有的化学稳定性,耐酸、耐碱、耐腐蚀等特性。它还具有较高的耐热性能,能够在一定范围内承受高温。聚丙烯酸甲酯浆料的主要用途包括:
涂料和喷涂剂:PPMA浆料可用于制备高透明度、高光泽度的涂层和喷涂剂,广泛应用于汽车、家具、塑料制品等行业中。
粘合剂:PPMA浆料可用作粘合剂,具有较强的粘接力和可塑性,可用于粘接各种材料。
PEI 在Si O2上的接枝量:3.81 g/100 g;温度:20 ℃;时间:30 min;p H:7PEI/Si O2的 BV 柱:2 m L;温度:20 ℃;初始浓度:100 mg/L;流速:5 BV/h 3.5 动力学吸附曲线 PEI/SiO 2和 IIP-PEI/Si O2对Cr3+的动力学吸附曲线如图7所示。当Cr3+溶液通过PEI/Si O2柱, 渗透出现在2 BV, 渗透吸附量为2.32 mg/g, 饱和吸附量为6.06 mg/g。动力吸附量与静态吸附量相似。当Cr3+溶液通过IIP-PEI/Si O2柱时, 渗透出现在4 BV, 渗透吸附量为5.24 mg/g, 饱和吸附量为9.94 mg/g。很明显, 在离子印迹后, IIP-PEI/Si O2对Cr3+的亲和力明显增加。
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Methoxy poly(ethyleneglycol)-b-polyethyleneimine聚乙二醇-b-聚乙烯亚胺PCL-b-PEI
Poly(ε-caprolactone)-b-polyethyleneimine
聚已内酯-b-聚乙烯亚胺
PLGA-b-PLL
Poly(lactide-co-glycolide)-b-poly(lysine-Zprotected)
进一步优选地,所述原料的重量配比为:喜树碱前50份、甲基丙烯酸450份、交联剂55.6份、引发剂16.8份;喜树碱前:甲基丙烯酸的质量比为1:(4~19);
喜树碱前:交联剂的质量比为50:(26.3~125);
喜树碱前:引发剂的质量比为50:(8.4~33.6)。
进一步地,所述交联剂选自甲叉双丙烯酰胺、n,n'-双(丙烯酰)胱胺中一种或两种。