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19世纪中叶,德国人格里斯(J. P. Griess)合成出芳香族重氮化合物,并发现重氮化合物不但遇热不稳定,而且对光照也不稳定。
1884年,德国人韦斯特(West)首先利用重氮化合物的感光性显示出影像。
1890年。德国人格林(Green)和格罗斯(Gross)等人将重氮化的混合物制成感光材料。取得了第一个重氮感光材料的专利。不久,德国的卡勒(Kalle)公司推出了重氮印相纸,从而使重氮感光材料商品化,并逐渐代替了铁印相技术。
1921年,美国人毕勃(M. C. Beeb)等人将碘仿与芳香胺混合在一起,用紫外光照射得到染料像,称它为自由基成像体系。
1925年,美国柯达(Eastman-Kodak)公司发现了聚乙烯醇和肉桂酸酯在紫外光下有很强的交联反应并且感光度很高,随后用于光学玻璃的光栅蚀刻,成为光刻胶的先驱。
利用物与带相反电荷的聚合物胶束疏水区通过静电作用而紧密结合,制得胶束。此法操作简单,所得胶束稳定,但条件不易满足,使用不多。不同方法制备的聚合物胶束的释特点
1、化学结合的胶束释特点
化学结合法制备的载胶束主要通过两种方式释:聚合物胶束降解后胶束结合物的共价键断开释;或胶束结合物的共价键断开,然后物从胶束扩散释。体外释放实验表明,许多聚合物胶束体现出缓释的特点。
分子印迹聚合物是近年发展起来的新型重要分子识别材料,功能单体与模板分子形成稳定的复合物,以使交联聚合后把模板分子的结构固定在聚合物的母体中,产生识别位点。此外,功能单体的用量对聚合物的识别性能有较大的影响,但功能单体一模板分子比例过高时,所制备的聚合物具有更紧密的结构和的耐溶胀性能。因此,模板分子与功能单体的选择对于分子印迹聚合物的制备。2.1 模板分子的选择印迹过程可以形成与模板分子形状及功能基排列互补的孔穴有关,因此研究模板的分子结构对MIP分子识别性能的影响具有重要意义。用小分子芳香族化合物,部分羟基数目及羟基位置不同的羟基苯甲酸化合物为模板分子,采用非共价印迹技术制备了相应的MIP,通过对比研究,探讨了模板分子中作用基团的数目及位置对非共价MIP分子识别能力影响的规律。模板分子中含有较多作用基团有利于得到对模板分子具有高印迹亲和力的印迹聚合物,即得到高印迹效率的MIP。当模板分子中作用基团间能形成分子内氢键时,印迹效率降低。这是由于印迹过程中模板分子的分子内氢键削弱了其与氢键型功能单体丙烯酰胺的结合,从而降低了模板分子的印迹效率。
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实施例2cpt-ss-m的制备在氮气气氛下,将喜树碱(0.70g,2mmol)和三光气(0.2g,0.66mmol)共混于50ml无水二氯甲烷中,随后加入4-二甲氨基吡啶(0.73g,6mmol),搅拌反应1小时。接着将hsema(0.55g,2.5mmol)溶于10ml无水四氢呋喃中,逐滴加入到上述反应液中。室温下反应24小时后,过滤反应混合物,以除去不溶性盐;旋转蒸发除去溶剂。将残余物重新溶解在二氯甲烷中,分别用稀盐酸(100mmol/l)、水、饱和氯化钠溶液分别洗涤两次。收集有机层,并用无水硫酸镁干燥。浓缩上清液,以二氯甲烷/甲醇(200/1,v/v)作为洗脱液,通过二氧化硅硅胶柱分离纯化,获得淡黄的供聚合用的喜树碱单体(cpt-ss-m)。1hnmr(cdcl3,δ,ppm,tms):8.41(s,1h),8.24(d,1h),7.95(d,1h),7.83-7.86(m,1h),7.67-7.70(m,1h),7.36(s,1h),6.08(s,1h),5.55(s,1h),5.40(d,2h),5.31(d,2h),4.42-4.33(m,4h),3.07-2.80(m,4h),2.33-2.12(m,2h),1.91(s,3h),1.01(m,3h)。esi-msm/z:计算值为597.13;实测值为597.14[m+h]+。图1为cpt-ss-m的1h-nmr图谱,明了该化合物成功制备。
苯甲醛是一种重要的精细化工中间体,广泛应用于医、香料、食品、染料等领域。目前,工业上主要以甲苯氯化水解法制取苯甲醛,存在着转化率低、选择性差、副产物多、污染环境等缺点,而且产品含氯限制了其应用。因此,目前急需开发绿的无氯苯甲醛生产技术。介孔二氧化硅纳米粒子具有较大的比表面积和孔容积、可调节的介孔孔径、稳定的骨架结构、易于修饰的内外表面和良好的生物相容性等优点,在物传输和缓控释领域具有广阔的应用前景。其中双模型介孔材料(BMMs)是一种新型介孔材料,它具有双孔道结构:3 nm左右。