常平PE塑胶回收厂家
1960年,出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。
1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。
1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。
1976年,美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。
1989年,日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术(EUVL)。
1990年后,开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。
1992年,IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂,而且在193 nm有较好的透光性 。
结果如图9所示,可以看出p(cpt-maa)前纳米凝胶(38.9%)和游离cpt(37.6%)处理后,hepg2细胞凋亡率(包括早期凋亡和晚期凋亡)显著高于pbs;而空白pmaa纳米凝胶和不含ss的p(cpt-maa)纳米凝胶对hepg2的细胞凋亡率分别仅为5.1%和6.8%。以上实验结果表明,pmaa纳米凝胶可以有效地将cpt递送至癌细胞并发挥其抗肿瘤活性。试验例5本发明纳米凝胶抑制肿瘤生长的体内实验
HPMA 更适合高温、高压、高硬度的水处理系统,具有优良的阻垢、分散和耐高温性能,常用于锅炉、海水淡化和蒸发设备中。 PAA 则适用于常温水处理系统,主要用于一般工业冷却水、反渗透系统等领域,分散和阻垢性能较好,但耐高温性相对较差。
这两种化合物常根据具体应用场景的不同需求来选择和使用。PMAA接枝聚苯乙烯(PSt-g-PMAA)共聚微球的应用: 通过原子转移自由基聚合(ATRP)和定向水解反应得到了苯乙烯单封端聚甲基丙烯酸(St—PMAA)大分子单体,使其与苯乙烯(st)在醇/水混合介质中进行接枝共聚反应,制得了以PSt为核,PMAA为壳,形态规整的聚合物复合微球.FT-IR和^1H-NMR的分析表明:St—PMAA大分子单体的结构明确,电位测定发现复合微球表面带有明显的负电荷,且在pH=5.5左右其Zeta电位可发生显著变化,说明该复合微球具有pH响应性。
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HPMA(Hydrolyzed Polymaleic Anhydride,水解聚马来酸酐)和 PAA(Polyacrylic Acid,聚丙烯酸)都是常用于水处理领域的聚合物,但它们的用途和性能存在一些区别。以下是 HPMA 与 PAA 在用途上的主要区别:1. 阻垢性能 HPMA 在高温下具有的阻垢性能,尤其对碳酸钙、硫酸钙、磷酸钙等盐类的阻垢,因此常用于高温、高压系统中,如锅炉水处理、蒸发设备和海水淡化系统。
Poly(methyl methacrylate-b-methacrylicacid)聚甲基丙烯酸甲酯-聚甲基丙烯酸PtBMA-b-PEO
Poly(t-butyl methacrylate-b-ethylene oxide)
聚甲基丙烯酸叔丁酯-b-聚氧乙烯
PMMA-b-PAA
Poly(methyl methacrylate-b-Acrylic Acid)