常平PET吸塑盘回收厂家

　　光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。

　　结果如图10所示。在连续5次注射后，在组中，给10mg/kg(以喜树碱含量计)的p(cpt-maa)前纳米凝胶显示出高的抑制肿瘤生长率。注射21天后，肿瘤体积(187.3±92.3mm3)显著低于pbs处理的小鼠(1354.4±283.3mm3，p<0.01)，空白pmaa纳米凝胶(1251.1±301.2mm3，p<0.01)和非还原敏感的p(cpt-maa)纳米凝胶(955.5±169.1mm3，p<0.01)，略低于p(cpt-maa)前纳米凝胶5mg/kgcpt处理的小鼠(418.3±96.2mm3，p<0.05)。给予5mg/kg游离喜树碱的组在初13天也获得良好的抗肿瘤效果，但它引起较严重的毒副作用:游离cpt组中的小鼠显示出度疼痛的状况，并且体重显着降低22％；更糟糕的是，该组中的小鼠在13天后迅速死亡。相反，用p(cpt-maa)前纳米凝胶处理的小鼠的体重和疼痛状态没有显著变化，即使给予10mg/kg的治疗剂量。

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　　实施例8还原响应性p(cpt-maa)纳米凝胶-3的制备将cpt-ss-m(50mg)，甲基丙烯酸(450mg)，甲叉双丙烯酰胺(55.6mg)和偶氮二异丁腈(11.2mg)，加入到干燥的50ml单颈圆底烧瓶中，接着加入40ml无水乙腈，超声使溶解。通氮气0.5小时以除去反应体系中的空气，接着将反应混合物加热至沸腾状态并保持2小时。待反应结束后，收集反应混合物，以1×104转/分钟的转速离心10分钟，得p(cpt-maa)纳米凝胶。接着，加入20ml乙腈，超声分散均匀，离心，重复此操作三次，获得较纯的黄的p(cpt-maa)前纳米凝胶。该方法下cpt-ss-m的接枝率为91.4±0.5％，马尔文粒度仪测得的该纳米凝胶的粒径为331±2nm，电位为-20.0±1.0mv。

　　Poly(dimethylsiloxane-b-t-butyl acrylate)

　　PDMS-PHEA

　　Poly(dimethylsiloxane-b-hydroxy ethylacrylate)

　　PDMS-PMMA

　　Poly(dimethylsiloxane-b-methylmethacrylate)PDMS-PtBuMA