石龙PC塑胶回收公司

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　PDMS-b-PMAA（聚二甲基硅氧烷-聚丙烯酸嵌段共聚物）结合了PDMS（聚二甲基硅氧烷）的柔性、疏水性与PMAA（聚丙烯酸）的亲水性、离子交换特性，因而在多个领域具有的应用。在物递送领域，PDMS-b-PMAA被用于制备响应性纳米载体。PMAA部分的酸性基团在不同pH环境下能够发生离子化或去离子化反应，因此能根据环境的变化调节物的释放速度。这种pH响应型的特性使其在肿瘤治疗中有效，因为肿瘤细胞区域通常呈现酸性环境，物能够在该区域迅速释放。此外，PDMS部分的柔性和疏水性使得载体的结构更加稳定，提高了载体的生物相容性和物的携带能力。

　　聚丁二烯-b-聚丙烯酸丁酯PBd-b-PMMA

　　Poly(butadiene(1,2 addition)-b-methylmethacrylate)

　　聚丁二烯-b-聚甲基丙烯酸

　　PBd-b-PCL

　　Poly(butadiene(1,4addition)-b-ε-caprolactone)

　　聚丁二烯-b-聚已内酯

　　石龙PC塑胶回收公司

　　本发明提供了喜树碱前凝胶，它是包含喜树碱前、甲基丙烯酸、交联剂和引发剂的原料通过聚合制备得到的，其中，所述喜树碱前的结构如式ⅰ所示:进一步地，所述的喜树碱前凝胶满足以下至少一项:

　　所述原料的重量配比为:喜树碱前25～100份、甲基丙烯酸400～475份、交联剂26.3～125份、引发剂11.2～22.2份；

　　优选地，所述原料的重量配比为:喜树碱前50～100份、甲基丙烯酸400～475份、交联剂26.3～125份、引发剂11.2～22.2份；

　　聚氧乙烯-b-聚甲基丙烯酸叔丁酯PEO-b-PMOXZPoly(ethylene oxide-b-2-methyl oxazoline)

　　聚氧乙烯-b-聚甲基恶唑啉

　　PEO-b-PGD

　　Poly(ethylene oxide-b-glycolide)

　　聚氧乙烯-b-聚丙交酯

　　PIB-b-PAA