惠东ABS塑胶回收公司

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　物理结合的胶束释特点物理包埋法制备的胶束常常通过扩散作用释。一般来说，物理包埋法制备的胶束比化学结合法制备的胶束释更快，释速度与3 个因素有关:

　　(1)物与疏水核的相容性良好的胶束核与物相容性可明显地延缓物的释放。将PEO-b-P(Asp) 疏水核引入饱和脂肪酸，结果包载的脂肪族物两性霉素B 的溶血性降低，意味着物的释放速度变小。

　　(2)氢键作用力胶束核与物之间具有强的氢键作用力也可以延缓物释放。制备了PDLLA 区含有游离羧基的PEO-PDLLA 胶束，并发现随着游离羧基浓度提高，物载量提高而释速率降低，可能是因为胶束核和物的氢键作用力增强所致。

　　实施例15还原响应性p(cpt-maa)纳米凝胶-10的制备将cpt-ss-m(100mg)，甲基丙烯酸(400mg)，甲叉双丙烯酰胺(55.6mg)和偶氮二异丁腈(16.8mg)，加入到干燥的50ml单颈圆底烧瓶中，接着加入40ml无水乙腈，超声使溶解。通氮气0.5小时以除去反应体系中的空气，接着将反应混合物加热至沸腾状态并保持2小时。待反应结束后，收集反应混合物，以1×104转/分钟的转速离心10分钟，得p(cpt-maa)纳米凝胶。接着，加入20ml乙腈，超声分散均匀，离心，重复此操作三次，获得较纯的黄的p(cpt-maa)前纳米凝胶。该方法下cpt-ss-m的接枝率为75.5±0.7％，马尔文粒度仪测得的该纳米凝胶的粒径为1205±24nm，电位为-17.4±1.0mv。

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　　在环境保护方面，PIB-b-PMAA由于PMAA部分的亲水性，可以作为一种水溶性吸附材料，广泛应用于水处理和污染物去除。PIB部分的疏水性有助于吸附和去除水中有机污染物，而PMAA则能够吸附一些无机污染物，尤其是对重金属离子的吸附效果较好，适用于水净化。此外，PIB-b-PMAA还可应用于涂料和涂层，作为增强材料的稳定性和*污性。PIB的疏水性有助于提高涂料的耐污染性，而PMAA部分则改善了涂层的附着力和抗湿性。因此，PIB-b-PMAA在工业涂层、电子元件保护等领域有重要的应用。

　　PnBuA-b-PAAPoly(N-butylacrylate-b-acrylic acid)聚丙烯酸正丁酯-b-聚丙烯酸

　　PANa-b-PMMA

　　Poly(Sodium Acrylate-B-Methyl Methacrylate)

　　聚丙烯酸钠-b-聚甲基丙烯酸甲酯

　　PMMA-b-PMAA