普宁废橡胶手套上门收购

　　1960年，出现邻重氮萘醌-酚醛树脂紫外正性光刻胶 。

　　1968年美国IBM公司的Haller等人发明聚甲基丙烯酸甲酯电子束光刻胶。

　　1973年由Bell实验室和Bowden发明聚烯砜类电子束光刻胶。

　　1976年，美国麻省理工学院的H. Smith提出X射线曝光技术。

　　1989年，日本科学家Kinoshita提出极紫外光刻技术（EUVL）。

　　1990年后，开始出现248 nm化学增幅型光刻胶。

　　1992年，IBM使用甲基丙烯酸异丁酯的聚合物作为化学增幅的193 nm光刻胶材料。同年Kaimoto等也发现了非芳香性的抗蚀刻剂，而且在193 nm有较好的透光性 。

　　该方法水解速度慢，水解产物往往是PMMA/PMAA共聚物，同时也存在酸碱中和污染严重等问题，在实际的生产中很少采用。聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)俗称有机玻璃，是一种热塑性树脂，目前已广泛应用在生活用品、家用电器、建筑、皮革、涂料等多个领域，国内PMMA 消费量年均增长保持在6％以上，到2010年，国内PMMA消费量将达20万～22万吨，在PMMA得到广泛使用的同时，也产生了大量废料，约占使用量的1 ％左右，如何将PMMA废弃物合理利用是目前需要解决的难题。

　　聚氧乙烯-b-聚甲基丙烯酸叔丁酯PEO-b-PMOXZPoly(ethylene oxide-b-2-methyl oxazoline)

　　聚氧乙烯-b-聚甲基恶唑啉

　　PEO-b-PGD

　　Poly(ethylene oxide-b-glycolide)

　　聚氧乙烯-b-聚丙交酯

　　PIB-b-PAA

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　　PnBuA-b-PAAPoly(N-butylacrylate-b-acrylic acid)聚丙烯酸正丁酯-b-聚丙烯酸

　　PANa-b-PMMA

　　Poly(Sodium Acrylate-B-Methyl Methacrylate)

　　聚丙烯酸钠-b-聚甲基丙烯酸甲酯

　　PMMA-b-PMAA

　　其中，cpt-ss-m接枝率的计算方法如下:收集纯化过程中的乙腈溶液，通过hplc测定其中cpt-ss-m的含量，则接枝率为(起始投料cpt-ss-m的量-测得cpt-ss-m的量差值)×100％/起始投料cpt-ss-m的量。hplc测定条件为:

　　仪器:agilent1260,agilent,usa；

　　谱柱:c18，4.6mm×150mm,5μm,agilent,usa；