古镇加纤PC/ABS长期回收

　　1942年，英国Eisler发明印刷电路板 [39]，重铬酸盐感光材料作为光敏抗蚀剂用于制造印刷线路板。重铬酸在紫外光作用下还原成三价铬离子，三价铬离子可和水溶性聚合物中的羰基、胺基、羟基等作用形成不溶的配位络合物。

　　1943年，美国杜邦公司提交了世界第一份有关光引发剂的发明专利，尽管这种二硫代氨基甲酸酯化合物感光活性较低，后来也未能转化为实际应用，但确实开启了一种全新的聚合物材料加工技术。

　　1948年，美国专利中出现第一个光固化油墨配方和实施技术的专利。

　　1949年德国Kalle公司首先开发成功紫外正性光刻胶。

　　1954年，由柯达公司的明斯克(L. M. Minsk)等人研究成功的光敏剂增感的聚乙烯醇肉桂酸酯成为第一个光固化性能的光刻胶 [39]，牌号KPR。先用于印刷工业，后用于电子工业。

　　1958年，柯达公司发展出了叠氮-橡胶系的负性光刻胶 ，牌号为KMER和KTFR。

　　Poly(styrene)-block-poly(ethylene glycol)聚苯乙烯-b-聚乙二醇

　　PDLLA-b-PAA

　　Poly(D,L-lactide-block-acrylic acid)

　　DL型聚乳酸-b-聚丙烯酸

　　PGA-PEG-PGA

　　Polyglycolide-block-poly(ethyleneglycol)-block-polyglycolide

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　　它的热稳定性好，适合在温度较高的环境中使用。PAA 对碳酸钙、磷酸钙等无机盐也有良好的阻垢作用，但其在高温下的阻垢效果不如 HPMA，适用于常温或中温系统中的阻垢。 PAA 更适用于一些相对温度较低的水处理系统，如一般工业循环冷却水和反渗透系统。 2. 分散性能

　　HPMA 具有良好的分散能力，尤其适合在高硬度、高浊度的水中使用，可以有效分散水中的悬浮物，污垢沉积。

　　聚苯乙烯-b-聚乳酸PS-b-PMPS

　　Poly(styrene-b-methyl phenyl siloxane)

　　聚苯乙烯-b-聚甲基苯基硅氧烷

　　PS-b-PDMEA

　　Poly(styrene-b-N,N-dimethyl amino ethylmethacrylate)

　　聚苯乙烯-b-聚甲基丙烯酸乙酯