详细说明
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产品参数
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品牌:东城粤宏再生资源回收
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特色:量大价优
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上门时间:可协商
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服务保障:专业靠谱
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类型:回收
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售后:现场结算
- 产品优势
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产品特点:
专业从事废金属回收,废电子回收,废塑料回收,废五金回收,废铝回收,PC回收,ABS回收,PP回收,PVC回收,PE回收,GPPS回收,POM回收,PPS回收,PMMA回收,AS/MS/TPU/TPE回收,废不锈钢回收,各类工厂废料回收等。
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服务特点:
热忱欢迎各企事业单位来电垂询,洽谈业务,互惠互利 ,希望与贵厂签订合同,长期合作,我们将竭诚为广大客户服务,共创美好明天。诚信合作,真诚服务。
普侨塑料胶头回收厂家电话
光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时,若采用适当的有选择性的光刻胶,可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同,又分为紫外光刻胶(包括紫外正、负性光刻胶)、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业 。光刻胶生产技术较为复杂,品种规格较多,在电子工业集成电路的制造中,对所使用光刻胶有严格的要求。
Poly(t-butyl methacrylate-b-2-vinylpyridine)聚甲基丙烯酸叔丁酯-b-聚乙烯基吡啶
PHEA-b-PNPA
Poly(2-hydroxyethyl acrylate-b-neopentylacrylate)
聚2-羟乙基丙烯酸酯-b-聚新戊酯
PMMA-b-PCL
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在本研究中, 我们在硅胶颗粒表面采用的表面印迹技术改性:首先是功能大分子聚乙烯亚胺 (PEI) 通过耦合接枝法接枝到硅胶颗粒表面;其次, 采用Cr3+作为模板分子, 环氧氯丙烷作为交联剂, 合成出离子 印迹聚合 物 (IIP-PEI/Si O2) 。采用静态及动态法研究了IIP-PEI/Si O2对Cr3+的吸附性能。2.1 材料及仪器 硅胶 (120~160目, 粒径约为125 um, 孔径:6 nm, 孔体积:1.0 m L/g, 表面积:350 m2/g) 从大洋化学有限公司购买。PEI (Mw=1×104~2×104) 从强龙化学有限公司购买。
PIB-b-PDMSPoly(isobutylene-b-dimethylsiloxane)
聚异丁烯-b-聚二甲基硅氧烷
PIB-b-PCL
Poly(isobutylene-b-ε-caprolactone)
聚异丁烯-b-聚已内酯
PIB-b-P4VP
Poly(isobutylene-b-4-vinyl pyridine)