莆田长期废钼回收电话地址
钼这一曾被冠以“战争金属”之名的稀有材料，其熔点高达2610℃的物理特性与的化学稳定性，不仅重塑了机器人核心部件的性能边界，更在产业链上下游掀起一场从资源争夺到技术突破的深度变革。
钼的应用早已突破传统钢铁行业的藩篱。在特斯拉Optimus的线性驱动模块中，含钼合金制成的行星滚柱丝杠以每秒数千次的往复运动承受着端载荷。这种材料的高温稳定性，使得机器人关节在连续运转中避免了传统钢材因热膨胀导致的精度衰减。
在更微观的层面，二硫化钼（MoS₂）纳米涂层技术正颠覆机械传动设计——厚度仅为头发丝千分之一的润滑层，可将齿轮磨损率降低70%，这对于需要终身免维护的服务型机器人。
电子系统的进化则进一步释放了钼的潜能。金钼股份（601958.SH）研发的结构钼粉，成功替代了日本产品，成为精密传感器外壳的首选材料。这种粉末冶金技术的突破，使得机器人触觉模块在潮湿、腐蚀性环境中仍能保持信号传输稳定性，为海底勘探机器人等特种设备铺平道路。
中国以590万吨钼储量占据39%的资源话语权，但低品位矿占比高达81%的现实，迫使产业向高附加值领域突围。2024年钼消费28.6万吨中，12.6万吨来自中国，其中新兴领域需求增速达18%。这背后是钢铁行业高端化转型的——每吨高端的钼添加量从0.3%提升至2.5%，直接推动洛阳钼业（603993.SH）将钼铁年产能扩至4.42万吨。
杠杆正在撬动更深层次的变革。2025年1月实施的钼制品出口管制新政，将纯度≥97%、粒径≤50μm的钼粉纳入管控，这既是对战略资源的保护，也倒逼企业加速技术升级。攀钢钒钛（000629.SZ）开发的氯化法提纯工艺，将钼精矿加工成本降低20%，其99.9%高纯钼产品已进入波士顿动力供应链。
在人形机器人制造链中，两类钼基材料扮演着关键角:钼铁合金（FeMo70）作为结构增强剂，通过“一步法”焙烧工艺融入机器人骨架；99.95%以上纯度的高纯钼粉，则经由氢气氛烧结炉在1500℃下成型，成为神经网络的电子接点。紫金矿业（601899.SH）沙坪沟钼矿的智能化配矿系统，通过AI算法实时优化矿石入选品位，将资源利用率从68%提升至92%，这种数字孪生技术正在改写传统采矿模式。
技术正在突破物理限。美国罗格斯大学开发的二硫化钼微型致动器，以1.6毫克自重拉动265毫克负载的能量密度，为微型化驱动单元提供了新思路。而河钢股份（000709.SZ）的亚熔盐法清洁生产体系，不仅将废水回用率提升至95%，更使钼制品晶界纯度达到航空级标准。
当前钼价已从2024年的3600元/吨度攀升至2025年3月的4200元/吨度，12%的涨幅背后是结构性缺口的持续扩大。若2030年人形机器人出货量突破1000万台，仅此领域就将新增500-1000吨钼需求，叠加风电、半导体等产业拉动，市场规模有望突破120亿元。但挑战同样尖锐:中国81%的钼矿品位低于0.12%，开采能耗是智利伴生矿的3倍，这迫使企业转向生物浸出等绿冶金技术，湖南某企业的微生物提钼工艺已使低品位矿利用率提升至75%。
钼产业的未来不仅关乎材料本身，更是高端智能制造与可持续开发的新。
钼元素(mù)为人体及动植物的微量元素。为银白金属,硬而坚韧。人体各种组织都含钼,在人体内总量为9mg,肝、肾中含量高。成年人每天一般需要0.15～0.3mg的钼。钼是维持人体健康的微量元素之一，更是眼睛虹膜的重要营养成分。虹膜可调节瞳孔大小，视物清楚。瞳孔放大与缩小的灵敏度与虹膜的健全有密切关系。钼对眼睛的营养机制是明钼菊“明目”的机制之一。
钼元素缺乏导致的不良影响有那些？HI98192使体内的能量代谢过程发生障碍，致使心肌缺氧而出现灶性坏死。导致缺铁性贫血。
影响胰岛素调节功能，造成眼球晶状体房水渗透压上升，屈光度增加而导致近视。
生长发育迟缓甚至死亡，神经异常，智力发育迟缓。
导致龋齿、肾结石、克山病、大骨节病、食道癌等疾病。增加了SO2毒害的敏感性。
钼食物来源膳食中摄人的钼主要来源于动物内脏、肉类、全谷类、麦胚、蛋类、叶类蔬菜和酵母。具体来说，钼含量较高的食物有:菊花、大豆、扁豆、萝卜缨、糙米、牛肉、蘑菇、葡萄和蔬菜等。
钼对健康的有益影响
钼是人体所需微量元素钼是人体所的微量元素之一，对人体健康有很大影响。钼对健康的影响主要有:
钼是形成尿酸不可缺少的微量元素。
钼是多种酶的重要构成要素，参与人体内铁的利用，可以预防贫血，促进发育，并能帮助碳水化合物和脂肪的代谢。
维持心肌能量代谢，预防克山病。
维持动脉的弹性，预防心血管疾病。
维护人体免疫功能。
调节甲状腺。
龋齿、肾结石和癌症等。
钼是组成眼睛虹膜的重要成分。钼为银白金属，硬而坚韧。密度10.2克/厘米3。熔点2610℃。沸点5560℃。化合价+2、+4和+6，稳定价为+6。电离能7.099电子伏特。在常温下不受空气的侵蚀。跟盐酸或氢氟酸不起反应。
人体各种组织都含钼,在人体内总量为9mg,肝、肾中含量高。成年人每天一般需要0.15～0.3mg的钼。由于钼在食物中比较广泛地存在，HI98103-02例如明钼菊花、小麦、豆类、牛奶、蛋类、猪肉和蜂蜜等食物中含有钼，再加上人体对钼的需要量低，因此一般不会缺钼。有些人缺钼，除了要考虑环境或饮食的因素外，还要注意人体本身对钼的吸收和利用。例如，因胃肠功氰尿酸能紊乱而造成缺钼的患者，应在补充含钼饮食的同时，加强对原发疾病及其病因的诊治。对缺钼的患者来说，目前还没有真正的钼类可应用。
钼对健康的有益影响
钼是人体所需微量元素钼是人体所的微量元素之一，对人体健康有很大影响。钼对健康的影响主要有:
钼是形成尿酸不可缺少的微量元素。
钼是多种酶的重要构成要素，参与人体内铁的利用，可以预防贫血，促进发育，并能帮助碳水化合物和脂肪的代谢。
维持心肌能量代谢，预防克山病。
维持动脉的弹性，预防心血管疾病。
维护人体免疫功能。
调节甲状腺。
龋齿、肾结石和癌症等。
钼是组成眼睛虹膜的重要成分。
钼对健康的不利影响
钼缺乏
钼缺乏导致的不良影响主要有以下几个方面:
使体内的能量代谢过程发生障碍，致使心肌缺氧而出现灶性坏死。
导致缺铁性贫血。
影响胰岛素调节功能，造成眼球晶状体房水渗透压上升，屈光度增加而导致近视。
生长发育迟缓甚至死亡，神经异常，智力发育迟缓。
导致龋齿、肾结石、克山病、大骨节病、食道癌等疾病。
增加了SO2毒害的敏感性。钼为银白金属，硬而坚韧。密度10.2克/厘米3。熔点2610℃。沸点5560℃。化合价+2、+4和+6，稳定价为+6。电钼离能7.099电子伏特。在常温下不受空气的侵蚀。跟盐酸或氢氟酸不起反应。人体各种组织镁硬度都含钼,在人体内总量为9mg,肝、肾中含量高。成年人每天一般需要0.15～0.3mg的钼。由于钼在食物中比较广泛地存在，HI981309例如明钼菊花、小麦、豆类、牛奶、蛋类、猪肉和蜂蜜等食物中含有钼，再加上人体对钼的需要量低，因此一般不会缺钼。有些人缺钼，除了要考虑环境或饮食的因素外，还要注意人体本身对钼的吸收和利用。例如，因胃肠功能紊乱而造成缺钼的患者，应在补充含钼饮食的同时，加强对原发疾病及其病因的诊治。对缺钼的患者来说，目前还没有真正的钼类可应用。钼对健康的有益影响钼是人体所需微量元素钼是人体所的微量元素之一，对人体健康有很大影响。钼对健康的影响主要有:钼是形成尿酸不可缺少的微量元素。钼是多种酶的重要构成要素，参与人体内铁的利用，可以预防贫血，促进发育，并能帮助碳水化合物和脂肪的代谢。维持心肌能量代谢，预防克山病。维持动脉的弹性，预防心血管疾病。维护人体免疫功能。调节甲状腺。龋齿、肾结石和癌症等。钼是组成眼睛虹膜的重要成分。钼对健康的不利影响钼缺乏钼缺乏导致的不良影响主要有以下几个方面:使体内的能量代谢过程发生障碍，致使心肌缺氧而出现灶性坏死。导致缺铁性贫血。影响胰岛素调节功能，造成眼球晶状体房水渗透压上升，屈光度增加而导致近视。生长发育迟缓甚至死亡，神经异常，智力发育迟缓。导致龋齿、肾结石、克山病、大骨节病、食道癌等疾病。增加了SO2毒害的敏感性。
引 言
随着电子及信息产业的迅猛发展，对溅射靶材的需求不断增加，同时对其技术及靶材性能的要求也在不断提高。 难熔金属钼具有高熔点(2620±20℃)、高弹性模量(280~390 GPa)、低线性热膨胀系数(5.8 ×10-6 ~ 6.2 ×10-6 / K)、高耐磨性、良好的导电/ 导热性能和热稳定性[1 - 3]。 因此，钼靶材经磁控溅射制成的钼合金薄膜是平面显示用液晶显示器面板的电或配线的关键材料。
在电子行业中，为了提高溅射效率和确保溅射薄膜的质量，要求溅射靶材具有高纯度、高致密度、晶粒细小且尺寸分布均匀、结晶取向一致等特性。
纯钼靶材溅射出的薄膜在耐腐蚀性(变) 和密着性(膜的剥离)等方面仍有待改善。 已有研究表明:在钼中加入适量合金元素(V、Nb、W、Ta)可使其比阻抗、应力、耐腐蚀性等各种性能达到均衡。 因此，目前钼合金靶材已经取代纯钼靶材成为研究的热点。 添加 W 可以有效提高钼的高温强度和再结晶温度，抑制钼靶材中的晶粒长大，但是钨的比重大且室温脆性大，钨添加量较大时会导致钼合金靶材较重，且塑性降低，容易萌生裂纹[4]。 Jorg 等[5]的研究表明，在钼中添加 20% (原子数分数)Al 和 10% (原子数分数)Ti 可以改善钼的抗氧化性能，并同时保持其低电阻率。 由于钼与铌均具有体心立方的晶体结构， 两 者 之 间 的 晶 格 错 配 度 低， 在 钼 中 添 加5% ~ 10% (质量分数) Nb 可以显著提高溅射薄膜的比电阻、耐腐蚀性能和黏结力[6 - 7]。 由于钽会优先被氧化形成钝化层，所以添加Ta元素可以降低薄膜的腐蚀率，但会造成钼合金薄膜电阻率升高[8]。
与钼铌合金薄膜相比，钼钽合金薄膜晶粒细化效果更加显著，薄膜沉积速率更大，薄膜表面粗糙度更小，但薄膜的电阻率更大[9]。Mo 靶材组织对溅射薄膜形貌与性能的影响研究结果表明:靶材组织、择优取向对薄膜形貌与取向影响不大，但靶材晶粒尺寸及均匀性会影响薄膜沉积速率、薄膜厚度及薄膜的方阻[10]。 马杰等[11] 研究了钼靶材变形量及热处理对薄膜组织与性能的影响，结果显示:相较于变形量小的钼靶材，80% 变形量的钼靶材溅射所得薄膜晶化程度更高;钼靶材经1 050 ℃退火后溅射制得薄膜粗糙度小。
磁控溅射是钼合金薄膜的主要制备技术。 靶材作为磁控溅射过程中的关键材料，不仅使用量大，而且靶材质量的好坏对钼合金薄膜的性能起着决定作用。 本文从粉体优化、混粉工艺、成型和烧结技术等方面对钼及钼合金溅射靶材相关专利进行了统计与分析，旨在为开发高品质钼合金多元靶材提供借鉴。
1 、专利统计与分析
1.1 粉体优化
专利(CN 103990802 B) [12] 通过优化 Mo 粉末的性状，开发出了一种高密度、高纯度 Mo 合金溅射靶材的制备方法，所制备 Mo 合金溅射靶材能够稳定、廉价地制造出低电阻、高耐湿/高耐热性、与基体密合性的高品质薄膜。
专利(CN 103173728 B) [13] 发明了一种廉价且可稳定制备 Mo 合金溅射靶材的方法，即将 Mo 粉与1 种或 2 种以上的 Ni 合金粉末混合(Ni6Nb7、Ni3Nb)，在 800 ~ 1 500 ℃ 下加压烧结(10 ~ 200 MPa)。 Mo合金中 Ni 与 Nb 含量低于 50% (原子数分数)，其中Nb 含量低于 20% (原子数分数)。 该专利避免了使用 Mo、Ni、Nb 粉末作为原料，解决了合金化不充分造成的 Ni 铁磁相的残留，稳定了溅射速度，提高了靶材寿命。
专利(CN 102127741 A) [14] 提出了一种薄膜太阳能电池用高纯钼靶的制备方法。 该方法首先采用钼酸铵为原料，经焙烧获得三氧化钼，随后在 450 ~600 ℃高纯氢气气氛下进行一次还原得到二氧化钼，再在 950 ~ 1050 ℃进行二次还原得到 Mo 粉，然后经过混料、筛分、等静压成型后，在中频感应炉中于 1 950 ~ 2 000 ℃烧结，通过大功率电子束熔炼提纯，经锻造、热轧、热处理退火、机械加工、超声波清洗、钎焊等工序制得高纯度、高密度和均匀性良好的钼靶。 该专利的之处在于:(1) 通过高纯氢气多次还原氧化钼提高钼粉纯度;(2) 采用大功率电子束熔炼提纯有利于碳氧充分反应，提高脱氧效果;(3)大变形量热轧可确保钼靶材晶粒平均尺寸小于 50 μm。
专利(CN 103160791 B) [15]采用三氧化钼、氢氧化钠和钼金属为原料，经过反应、球磨、过筛和热压工序制成钠掺杂钼平面溅射靶材，其中钠的原子数分数为 1% ~ 10% ，钠的掺杂能够大幅度提高铜铟镓硒薄膜电池的转换效率。
专利(CN 114411103 A) [16] 公开了一种大尺寸钼靶材的制备方法。 其方案具有以下优点:(1) 采用“氨溶 + 阳离子交换” 对原料粉末进行针对性提纯，可有效去除碱性金属(如 K、Na 等) 和过渡族金属杂质(如 Fe、Ni 等);(2)通过“预锻 + 交叉轧制 +高温退火” 的工艺设计，有利于获得微观组织均匀可控、晶粒细小、晶粒取向分布均匀的靶材;(3) 通
过表面化学腐蚀解决了传统轧制存在的变形不均匀问题。
专利(CN 114318256 A) [17] 公开了大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺。 具体为:通过钼与三氟化氮反应制备出粗品六氟化钼，随后经真空蒸馏法和吸附法提纯得到高纯度六氟化钼，再在还原气氛下，经过化学气相沉积在基体材料上沉 积 金 属 钼。 该 方 法 所 制 备 靶 材 纯 度 高(99.999 9% 以上)，致密度高(不低于 99.5% );此外，该方法在化学气相沉积设备中一步完成，产品一致性优于传统钼靶材，且可用于生产直径 500 mm以上的大尺寸钼靶材。
专利(CN 105648407 B) [18] 公开了一种高致密度钼铌合金靶材的制备工艺。 以钼粉为原料，添加5% ~ 15% (质量分数)铌粉、0.1% ~ 0.8% (质量分数)氢化锆进行混合，经过冷等静压成型，再进行真空烧结。 该发明的特点在于利用氢化锆的活化作用，通过粉末冶金直接制备高致密钼铌合金靶材。
专利(CN 10943990 A) [19] 利用氢化铌的活化作用，采用粉末冶金工艺制备高致密度、高含量钼铌合金溅射靶材。 专利(CN 110257784 A) [20] 同样采用粒度更小、表面积更大的氢化铌替代铌粉，提高扩散速率及烧结致密度，同时氢化铌分解释放的氢气具有还原作用，可降低钼铌合金中的氧含量，提高靶材纯度。
专利(CN 105568236 B) [21]发明了一种高纯、高致密、大尺寸 MoTi 合金溅射靶材的制备方法。 将钼和氢化钛原料在氩气气氛下进行混合并采用冷等静压压制成型，随后在真空烧结炉中进行两段烧结，轧制、退火、机械加工获得成分均匀、无偏析且晶粒尺寸小的靶材。
专利(CN 106513664 B) [22] 采用钼酸钾为原料制备钼钾合金靶材，避免了杂质的引入，所制备靶材密度高、成分均匀，镀膜效果好。高世代钼靶材对靶材纯度、晶粒尺寸、致密度提
出更高的要求，常规方法生产成本高、成品率低。 基于此，专利(CN 108642457 B) [23]公开了一种方法简单、生产成本低、成品率高、利于工业化生产的高世代钼靶材的制备方法。 具体为:将两种不同粒径的钼粉在真空下混合后过筛，进行等静压处理，再烧结、热轧、真空退火。 该方法制得靶材致密度超过99.5% ，靶材内部无气孔、裂纹、分层、夹杂等缺陷，靶材表面粗糙度小于 0.6 μm， 平均晶粒不 超 过80 μm。
相比平面靶材，管状钼合金溅射靶材利用率更高(理论上可达 70% )，得到国内外的广泛研究和应用。 专利(CN 110158042 B) [24] 先通过制备大颗粒钼铌粉体，提高粉体成型时的流动性，同时采用粗细粉体级配的方式提高松装密度，从而制得成分均匀、无偏析、晶粒细小( 小于 50 μm) 的钼铌合金旋转靶材。
专利(CN 114231940 A) [25] 将六羰基钼颗粒在高纯氢气和氩气气氛中加热到 40 ~ 60 ℃使其气化，再利用化学气相沉积法在预热基体材料上进行沉积，从而制得钼溅射靶材。 其优势在于成膜速度和成膜质量可以通过控制气体流速、流向进行调控，同时调整沉积时间、沉积基板材质、形状和尺寸，可以沉积不同厚度、不同尺寸、不同形状的钼靶材或钼靶材坯料，且由于沉积温度低，不会产生污染废气。
专利(CN 111254396 A) [26] 公开了一种钼钨合金靶材的制备方法。 其特点在于以钼粉、钨粉、三氧化钨粉体作为原料，利用三氧化钨与氢气反应得到烧结活性更高的新鲜钨粉，提高烧结致密化，减少缺陷，提升靶材品质。
钨钼因密度差异大易造成组织出现偏析，影响靶材组织均匀性，且热轧法制得靶材通常具有取向性，热等静压技术成本较高并增加了工艺复杂性。
专利(CN 111893442 B) [27]针对以上问题，提出了一种钨钼溅射靶材制备方法。 其特点在于:(1) 使用密度与 Mo 更接近的三氧化钨替代钨，在氢气气氛下两次高温处理原位还原得到均匀混合的钼钨混合粉体，提高靶材烧结均匀性;(2)通过高能球磨细化粉体，提高粉体烧结活性，获得高致密性的坯体;(3)采用冷等静压成型并进行预烧，促进易挥发非金属元素(如氧)的脱除。
专利(CN 111534800 B) [28] 将高纯的钼粉和铌粉进行压制，并在氢气下预烧，降低钼铌中的氧含量和杂质，基于所制备的高纯度、低含氧量、高振实密度钼铌合金粉末，提出了一种热等静压制备大尺寸钼铌平面靶材的方法。
专利(CN 106567047 A) [29] 采用氮化硼和石墨的组合模具热压制备钼铌合金，有效阻止了渗碳现象，获得了高致密度、高纯、微观组织可控的钼铌合金靶材。
1.2 混粉工艺优化
专利(CN 102337418 B) [30] 针对传统等静压结合烧结工艺制备钼铌合金烧结致密度不足、满足溅射靶材要求问题，提供了一种工艺简单、易实现工业化生产的钼铌合金板的制备方法，所制备靶材密度不低于 9.85 g / cm3。 该发明的特点在于采用振动压制方式对混合得到的钼铌合金粉体进行压坯，振动频率为 2 000 ~6 000 Hz，压制力为 10 ~30 MPa，
保压时间为 30 ~ 60 s;随后在 1 900 ~ 2 100 ℃ 真空烧结 6 ~ 10 h。
专利(CN 105887027 B) [31]在混合钼、铌粉体时加入过程控制剂(硬脂酸锌、棕榈酸、硬脂酸乙酯、聚乙烯醇和硬脂酸中的一种或几种)，在球磨过程中过程控制剂能够包覆在金属粉末表面，形成一层润滑薄膜，降低粉末表面能，减少了粉末间的冷焊，从而解决了粉末粘球和粘罐问题，同时缩短了球磨时间。
溅射靶材的晶粒均匀性在很大程度上影响着薄膜质量和电子元器件性能。 因为靶材不同区域晶粒尺寸的差异会引起溅射速度的差异，进而造成薄膜厚度不均匀。 因此，如何提高溅射靶材晶粒均匀性是平 面 显 示 领 域 面 临 的 关 键 难 题。 专 利 ( CN109355632 B) [32]提出了一种提高溅射镀膜用钼及钼合金溅射靶材晶粒均匀性的方法。 其特点在于:
采用球磨—分级联合处理减少钼粉还原过程中的硬团聚，从而坯体烧结的微观晶粒均匀性以及溅射镀膜微观和整体均匀性。
专利(CN 103255379 A) [4] 基于 MoW 合金导电性好、抗氧化且膜应力低等优点，提出了一种 MoW合金平面溅射靶材的制备方法，克服了现有方法制得成分均匀、无偏析、晶粒细小靶材的难点。 该发明的特点之一在于采用机械合金化技术实现钼和钨原子级别的混合，在固态下实现了合金化，显著提高了 MoW 的活性，降低了 MoW 的烧结温度，从而提高了合金致密度、降低了晶粒尺寸。 类似地，专利(CN 105154740 A) [33] 公开了一种机械合金化制备铌钼靶材的方法。
专利(CN 108374152 B) [34] 通过机械混合使钼粉均匀渗入海绵钛孔隙中以确保钼粉不发生泄漏，同时在真空自耗电弧熔炼炉中进行熔炼，促使合金铸锭成分均匀化，从而制备出 100% 致密的、成分均匀的 钼 钛 合 金 溅 射 靶 材。 类 似 地， 专 利 ( CN109811318 A) [35]以溅射法生产的 99.9% 纯度的钼合金为原料，采用电子束冷床熔炼工艺制备纯度大
于 99.98% 的钼溅射靶材。
专利(CN 102321871 B) [36] 发明了一种热等静压生产平板显示器用钼合金溅射靶材的方法。 将低氧含量的钼粉与添加的金属粉末(铌粉或钽粉) 在惰性气氛保护下进行混合造粒、过筛，液压成型制成靶坯，随后经冷等静压提高均一性，再热等静压烧结(压力 200 ~ 300 MPa，温度 1 200 ℃)。 该发明生产周期短、工序少、能耗低，所制备钼合金靶材致密度高、均匀性好、性能。
专利(CN 107916405 A) [37] 通过改进混粉工艺严格控制杂质的引入，提出了一种高密度、晶粒细且均匀的钼钽合金溅射靶材的制备方法。 该发明能够靶材吸氢脆化，提高靶材加工性能。 其特点在于:对钼粉和钽粉进行真空预烧处理，去除了粉体中的氢、氧及低熔点物质;在粉体混合时采用氩气保护减少杂质的混入;选择钼球替代钢球进行球磨，减少铁杂质的掺入。
1.3 轧制工艺和烧结方法
大尺寸钼板由于坯料重量及尺寸规格较大，制备中存在两个问题:一是在常规尺寸氢气炉中加热，二是直接加热轧制时钼坯降温严重，容易出现轧制开裂的现象。 专利(CN 102534519 B) [38] 针对上述问题提出了一种 LCD 平板显示器溅射靶材用大尺寸钼板的制备方法。 采用涂刷抗氧化涂层(玻璃粉、水玻璃、水按质量比 8 ~ 10∶ 1∶ 8 ~ 10 混合)和钢包套包覆的方式缓解加热和轧制时的氧化问题及坯料降温严重导致的开裂问题，并在次轧制后通过冷却抑制组织不均匀长大和再结晶，制备出尺寸均匀的等轴晶组织。
专利(CN 114411103 A) [39] 公开了一种大尺寸钼靶材及其制备方法，所述制作方法包括如下步骤:行粉体装模，随后进行冷等静压，再经过烧结，并采用一火二道次轧制法进行热轧处理，进行校平、热处理、机械加工和清洗，制得大尺寸钼靶材。
该方法采用一火二道次轧制法，有效了钼靶因持续高温造成的晶粒异常长大，制得的大尺寸钼靶材可以用于高世代线平板显示器。
专利(CN 112609162 A) [40] 公开了一种 LCD 钼靶材及其轧制方法。 采用三个火次进行轧制，避免了钼靶坯在轧制过程中发生板面绕曲及开裂现象，降低了操作难度，提高了成材率。 所制备靶材纯度达到 99.95% 以 上， 平 面 度 ≤1.3 mm， 致 密 度 超过 97% 。
纯 Mo 中引入置换固溶元素 Ti 形成 MoTi 固溶体，可改善钼的低温塑性并提高钼的再结晶温度。但 MoTi 合金多采用热等静压或热压烧结制备，对设备要求严格，限制了产品规格尺寸。 基于此，专利(CN 104532201 A) [41]提出了一种 MoTi 合金溅射靶材的制备方法。 将钼粉和钛粉在氩气中进行混料，随后冷等静压成靶坯，在氦气气氛下烧结。
G6 世代线以上的 TFT - LCD 产线主要使用长条型的钼靶。 通过多次轧制获得长条形钼靶材的生产效率不高，而热挤压方法制备的钼靶晶粒较大，致密度 满 足 使 用 要 求。 专 利 ( CN 111647860B) [42]将钼粉装入胶套进行冷等静压成型获得坯体，并在氢气氛围下烧结，再进行热挤压，退火、校平、机加工得到长条型钼靶。
专利(CN 111850495 B) [43] 采用阶段升温的烧结方式，通过控制升温速率，促使钼靶材致密化、均匀化。 该发明制备钼靶材晶粒尺寸小、纯度高( ≥99.97% )、致密度高(≥99.9% )。
专利(CN 110777343 A) [44] 在真空下采用微波烧结将钼生坯烧结成钼板坯，并通过电子束熔炼进行提纯，解决了传统方法烧结时间长、烧结温度高、晶粒粗大、杂质含量高、能耗高的问题。 所制备靶材晶粒细小均匀，具有一定的结晶取向，性能优良。
专利(CN 111230096 A) [45]将混粉工艺、脱气工艺和热等静压烧结工艺相互配合，致力于改善合金靶材的致密度。 该发明制得的铬钼靶材晶粒尺寸细小，致密度在 99% 以上，同时此工艺可有效保障产品不受外界氧化，确保产品纯度。
热等静压烧结制造的 Mo - Ni - Ti 合金靶材存在部硬度不均匀的部位，其中部硬度低的部位在机械加工时易变形，产生裂纹、缺损、脱落等问题;部硬度高的部位将造成切削刀具磨损，引起靶材表面粗糙度变大，导致溅射时异常放电。 基于此，专利(CN 111719125 A) [46] 提出了一种 Mo 合金靶材的制备方法，通过对混合粉体(Mo、NiMo、Ti 粉末)常温加压成型再加压烧结，并调整 Mo 合金靶材中Ni 和 Ti 的添加量，实现对 Mo 合金靶材维氏硬度的调节(340 ~ 450 HV)，抑制机加时的靶材变形以及溅射时的异常放电。
专利(CN 104073771 A) [47] 将冷等静压制得的靶坯密封在真空石英管中进行烧结，采用多段升温，使 PVA 粘结剂充分挥发，制得钠掺杂钼合金靶材。
专利(CN 105714253 B) [48] 将钢膜和橡胶板结合进行冷等静压成型，解决了密封问题，克服了传统冷等静压压坯尺寸精度差的问题，并据此提出了一种大尺寸、细晶钼钽合金溅射靶材的制备方法。 该方法用于生产致密度大于 97% 的大尺寸靶材(长度2 m 左右，宽度 1.3 m 左右)。
1.4 其 他
专利(CN 105525260 A) [49] 公开了一种 Mo 靶坯和 Mo 靶材的制作方法，即对预压 Mo 粉进行脱气处理得到 Mo 靶坯，再进行热等静压获得 Mo 靶材(温度 1 300 ~ 1 400 ℃，压力大于 150 ~ 200 MPa，保压时间 3 ~ 6 h)，克服了热压烧结中 Mo 靶材尺寸对模具尺寸和强度的依赖及单轴加压造成的 Mo 靶材内部组织不均匀问题。
随着智能手机和平板终端向柔性化发展，具有轻量、耐冲击和不易破碎等性质的树脂膜已被用于制造柔性 FPD。 但相比玻璃基板，树脂基板具有透湿性(高温高湿环境会导致布线膜的电阻发生变化)，且通常在基板上形成层叠布线膜后，层叠布线膜不可避免地接触大气，这就要求层叠布线膜具有更高的耐湿性和耐氧化性。
专利(CN 102956158 A) [50]提出一种电子部件用层叠布线膜以及覆盖层形成用溅射靶材。 即在 Mo 中添加一定量的 Ni 和 Ti，制得Mo100 - x - yNixTiy(10≤x≤30，3≤y≤20)覆盖层，用于覆盖以 Al 为主要成分的主导电层。 Ni 的添加可提高覆盖层的耐氧化性，改善纯 Mo 在大气中加热后的氧化变及电接触性恶化问题。 Ti 易与氧结合形成钝化膜，进一步提高其耐湿性，起到保护布线膜的作用。 同时该专利指出，通过控制 Ni 和 Ti 添加量，可确保加热工序中该覆盖层在与 Al 层叠时仍维持低电阻值。
专利(CN 114293160 A) [51] 以 Mo 为基体，提出了一种三元、四元钼合金靶材制备方法。 其中掺杂元素包含 0.5% ~ 40% (原子数分数) Ti 以及 0.5%~ 40% (原子数分数)的 Ga、Ni、Nd 中的至少一种元素。 所制得多元钼合金靶材相比二元合金 Mo 靶材，具有的耐氧化性、耐湿性、耐高温性能。 此外，低表面张力金属元素的掺杂改善了刻蚀性能。
专利( CN 109207941 A) [52] 提出了一种 MoNb合金靶材的制备方法(其中 Nb 的原子占比为 5% ~30% )，能够解决布线薄膜、电薄膜的基底膜与覆盖膜上出现的高电阻问题以及高成膜速度时靶材表面粗糙度变大问题，从而改善 TFT 性能稳定性。 其制备过程为:将 Mo 粉(平均粒径 4 μm)和 Nb 粉(平均粒径 35 ~ 115 μm)通过交叉旋转混合机进行混合
得到 10% Nb(原子数分数) 的混合粉体，随后填充至软钢制的加压容器中，并在 450 ℃下真空脱气、密封，然后在1250 ℃、145 MPa 热等静压处理 10 h 得到烧结体， 经机械加工和研磨后制作成直径180mm、厚度5mm的靶材。
钼镍铜多元合金薄膜不仅具有良好的热电和机械性能，而且气密性好、 不易潮解。 专利 ( CN110670032 B) [53]公开了一种钼镍铜多元合金靶材的制备方法。 该方法通过添加镍和铜降低钼合金熔点，借助烧结工艺参数调控解决了 3 种金属粉末熔点相差大导致的难烧结问题。 所制备钼镍铜合金靶材气密性好、耐湿耐潮、密度高、纯度高。
专利(CN 113319539 B) [54] 提供了一种大尺寸面板钼靶的制备方法。 具体步骤为:将靶材及背板进行粗铣和精铣，然后将靶材与背板进行钎焊，然后进行校正、烘干、抛光以及喷砂处理。 该方法提高了钼靶与背板的结合率，提高了产品的合格率，减少了资源浪费。
专利(CN 103154306 A) [55] 涉及一种含钼靶材制备方法，包含二元合金( MoTi)、三元合金( MoTi中加入 Ta 或 Cr 作为第三主金属元素)。 其具体步骤为:将钼粉、钛粉和钽粉(或铬粉) 按一定比例在V 型混料机中混合约 20 min，在 23 ℃ 条件下，通过单向压制法( 压力约 470 MPa) 压实得到直径约95 mm 的颗粒，将压制颗粒封装在低碳钢罐内进行热等静压处理(120 MPa，1 325 ℃，4 h)，将热等静压后的材料加工成直径约 58.4 mm、厚度约 6.4 mm的靶材。 该发明制得的靶材在较低刻蚀速率下具有一定的优势，且溅射得到的薄膜对基材有较强的粘附性及低的电阻率。
2、 结 论
基于对上述专利的分析可以看出，钼及钼合金溅射靶材的制备主要采用粉末冶金技术，需要经过粉末混合、压制成型、烧结、压力加工和机加工等多道工序。 制备高质量的钼合金溅射靶材往往需要进行压制和烧结、多道次的轧制与反复的热处理。 由于热等静压或热压烧结设备规格有限，限制了产品的尺寸规格。 因此，开发一种方法简单、成本低、成品率高且利于工业化生产的高品质大尺寸钼合金溅射靶材制备方法具有重要的意义。 此外，目前 Mo 合金靶材中主要添加元素有 Nb、Ti、Ta、W 等，鉴于每种掺杂元素的作用和性能各不相同，而三元及多元钼合金靶材的研究和应用还不够全面，因此针对不同应用领域对钼合金薄膜性能的不同需求，通过成分设计与微观组织调控开发出新型组分钼合金靶材将是一个重要的发展方向。
2月25日，胡润研究院发布《2024胡润中国500强》，列出了中国500强非国有企业，按照企业价值进行排名。据Mysteel统计，共有11家有企业上榜，其中，洛阳业等5家企业估值超千亿元。
【市热点】
1月22日，洛阳业发布业绩预告，预计2024年归母净利润在128亿到142亿元之间，比2023年增加45.50亿到59.50亿元，同比增长55.15%到72.12%。
2024年，公司铜、钴、铌等主要产品产量均创历史新高。得益于刚果（金）TFM和KFM两座世界级铜矿山、总计6条生产线的全力生产，公司产铜65万吨，同比增长55%。与此同时，铜价2024年整体在高位徘徊，LME期铜一度在去年5月创出11,104.5美元/吨的历史新高。作为铜的副产品，钴产量为11.4万吨，同比增长106%。铜钴产销量同比大幅增长，叠加铜产品同比上升、降本增效等措施，
驱动2024年洛阳业经营业绩再创历史新高。
1月6日晚间，洛阳业发布2024年度主要产品产量情况的公告，2024年公司钴产量114165吨，同比增长106%。
洛阳业发布关于2024年度主要产品产量情况的公告。根据初步核算，2024年公司铜产量为65万吨，同比增长55%；钴产量为11万吨，同比增长106%；产量为2万吨，同比下降2%；钨产量为8288吨，同比增长4%；铌产量为1万吨，同比增长5%；磷肥产量为118万吨，同比增长1%。
12月27日佛山市丰汇:
316 干净炉料 17000，
304无胶边料 9650，
304新胶边料 9400，
304# 工业料 9350，
304# 混搭料 9200，
304干净统料 9100，
304黑金刚网 5000，
301 电子边料 7200，
201无胶新料 4650，
201新旧管料 4550，
201新胶边料 4350，
201混搭料包4250，
201干净统包4100，
不锈铁统料包2700，
各种高镍高高铬钢。
洛阳业11月28日在投资者互动平台表示，公司积布的资产及世界级资源，重视投资价值和股东获得感 。公司目前是领先的铜、钴、、钨、铌生产商和巴西领先的磷肥生产商，同时公司基本贸易业务居前列。我们提出了未来五年的发展目标，初步进入一流矿业公司行列，实现年产铜从60万吨提升至80-100万吨。同时公司也将不断提升运营质量，加强公司治理，着力降本增效，进一步增强竞争优势。
【市热点】韩国对越南冷轧不锈钢征收3.66-11.37%反倾销税。10月23日综合消息，韩国贸易委员会（KTC）决定对来自越南的冷轧不锈钢产品征收初步反倾销（AD）税，税率从3.66%到11.37%不等，具体取决于公司。
具体来说，甬金科技（越南）的反倾销税率为3.66%，TVL股份公司和TVL钢铁生产建设股份公司的反倾销税率为11.37%，其他供应商的反倾销税率为4.79%。
涉案产品为不锈钢冷轧产品，包括钢种、形状、宽度、长度和厚度，不论表面处理和切边。
损害调查期为2021年1月1日至2023年12月31日，倾销调查期为2023年1月1日至2023年12月31日。
此次反倾销调查是在今年5月根据浦项钢铁公司的申请启动的。
中恒戴南基地废不锈钢采购:
304， 新料10300，
316L，新料19000，
2205，新料18800，
2507，新料23500，
410，新料3700，
430，新料4200，
436，新料7000，
443，新料4800，
201，新料5000，
304L，新料10500，
2304，新料8200，
17-4，新料8600，
347， 新料11500，
309s，新料15200，
317L，新料21000，
310，新料25500，
904L，新料42000，
c276，新料130000，
高镍高高铬材质电议，秒付款，不欠帐，
10月10日，Northisle Copper and Gold为其位于不列颠哥伦比亚省哈迪港附近的100%控股项目提供了的资源估算，以支持新的初步经济评估（PEA），该评估预计将于2025年季度初发布。North Island项目资源目前总计9.06亿吨，指示资源铜品位为0.16%，金品位为0.24克/吨和品位为75 ppm，总含量为63亿磅铜当量；另外还有2.14亿吨推断资源，铜品位为0.12%、金品位为0.22克/吨和品位为52 ppm，总含量为13亿磅铜当量。
钼矿是一种高熔点金属矿石（2610 ℃）和耐高温性、耐腐蚀性、良好的导热性和导电性、高强度和硬度（莫氏硬度5.5）和低热膨胀系数。由于钼的这些性质，它被广泛应用于航空航天领域、电子器件、化工、广泛应用于石油钢铁等领域。然而，钼资源有限且分布不均，其开发利用需要考虑可持续性和资源管理问题。此外，钼矿石通常比较复杂，含有其他矿物和杂质，需要精炼和熔炼才能获得高纯度的金属钼。此外，钼矿床还可能含有其他矿物，如方铅矿（Galena）黄铜矿（chalcopyrite）黄铜矿（sphalerite）等。由于地质条件和矿床类型不同，具体的矿物成分也会有所不同。钼矿的矿物组成探索、它在开采和精炼过程中起着重要的指导作用，决定了钼矿石的特性和精炼工艺的选择。
钼矿常呈黑、铅灰或深灰，有金属光泽或半金属光泽。这种泽特征对矿石的初步鉴定和分类有参考价值，也有助于钼矿石与其他类似矿石的区分。，钼矿不透明，没有透明度。
钼矿的物理性质对其勘探、开采和利用的过程有着重要的影响。首先，钼矿的密度很高，通常为10.2 g/cm³。其次，钼矿石的硬度很高，一般在5-5.5之间。这就要求在钼矿破碎磨矿过程中采用相应的设备和工艺，以的破碎和细磨作业。
此外，钼矿的断口呈贝壳状或贝壳状。这是由于钼矿物的解理性质和晶体结构，在矿石鉴定和表征过程中具有重要价值。
钼矿的形态特征可能因矿床类型和产矿环境的不同而不同以下是钼矿常见的形态特征:
片状或鳞片状结构
辉钼矿是常见的钼矿之一，通常呈片状或鳞片状结构。这些片状结构可以在矿石中形成夹层或簇。辉钼矿的片状结构可呈现金属光泽，并具有一定的延展性和柔韧性。
黑或铅灰
钼矿通常呈黑或铅灰，因为其主要成分是硫化钼。辉钼矿、辉钼矿辉钼矿等钼矿物常呈此。其颜有助于进行初步的鉴别和区分。
钼矿的晶体形态可以根据其晶体结构来确定。以辉钼矿为例，其晶体结构为六方，形成六方片状晶体。其他钼矿物，如辉钼矿，具有不同的晶体结构和形态。
包裹体和胶结状
在某些矿床中，钼矿物可以以包裹体或胶结物的形式存在。这些包裹体由不同矿物或岩石包裹钼矿物组成，形成复合矿物结构。胶结型钼矿物是由于矿床中含有钼矿物的胶结物质的存在，导致胶体结构的形成。
矿脉状
在某些矿床中，钼矿物可以以脉状存在。矿脉是岩石裂缝或断层中形成的矿物填充物。钼矿矿脉可以是纵向的、横向或扭曲，其形状和分布对勘探和开发具有重要意义。
废钼回收的质量标准与检测技术
回收钼的品质直接影响其应用价值。国际通用标准（如ASTM B387）规定钼粉纯度需达99.95%以上，关键杂质（如碳、氧）含量需低于0.01%。检测手段包括X射线荧光光谱（XRF）分析成分、激光粒度仪测定粉末细度。对于合金废料，还需通过金相显微镜观察组织结构。严格的质检是保障下游客户（如半导体厂商）信任的关键，部分高端应用甚至要求提供从废料到成品的全程溯源报告。