研创新材提供高纯金属金:平面靶，多弧靶，旋转靶（规格尺寸可按客户要求及图纸精密定制）

　　金丝:常规规格直径0.3-5mm.（规格尺寸可按客户要求及图纸精密定制）

　　高纯金颗粒:常规规格10*10mm.，6*6mm.，3*3mm.，2*10mm.等规格。（规格尺寸可按客户要求及图纸精密定制）

　　高纯金靶材的生产工艺为:铸锭（感应电溶解电子束熔炼法连续铸造）→→成型（锻造→热轧或冷轧→拉伸）→→热处理（均质化，再烧结）→→精密机械加工（切削，铣，车，磨，刨）→→与背板结合（软焊，扩散焊）→→检测（超声波，X光射线探

　　研创新材专业生产高品质溅射靶材，陶瓷靶材，金属靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域:科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。

　　1.金属靶材:

　　镍靶，钛靶，锌靶，铬靶，镁靶，铌靶，锡靶，铝靶，铟靶，铁靶，锆靶，硅靶，铜靶，钽靶，锗靶，银靶，钴靶，金靶，钆靶，镧靶，钇靶，铈靶，铪靶，钼靶，铁镍靶，钨靶，不锈钢靶，锆铝靶，镍铁靶，钛铝靶，铁钴靶，镍铬靶，铜铟镓靶，铝硅靶，锌铝靶等溅射靶材。

　　2.陶瓷靶材

　　ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶、氧化钇靶，氧化铁靶，氧化铁靶、氧化镍靶，氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶，硫化钼靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二硫化钼靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等陶瓷溅射靶材.

　　3.合金靶材

　　合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。