昭通模具清洗机批发价格

　　效率高、省时省力、操作简单、通电即可，可手持或配合机械手实现自动化清洗；是在焊缝和粘合处的处理，能做到不超过几平方毫米上进行清洗处理；可以同生产制造同步进行表面清除，适合大批量生产加工；激光清洗可连续工作80000小时以上，使用期间无耗材、免维护、体积小、操作简便。与其它清洗产品对比:激光清洗、无接触化学清洗、有接触研磨清洗、有接触干冰清洗、无接触超声波添加清洗剂、有接触砂、砂轮、油石等不能指定范围清洗操作简单、可自动化工序流程复杂、对操作人员要求高、需作污染防护措施耗费人工人力很辛苦、需做污染防护措施操作简单、手持或自动化操作简单、但需要人工添加耗材一次性投入、无维护首次投入低、耗材成本高首次投入高、耗材人工成本低首次投入中等、耗材成本高首次投入低、耗材成本中等模具行业、汽车制造、船舶业、食品加工、污水处理、橡胶轮胎、石油化工等行业、航空航天、电子产品、汽车制造、轨道设施、高端机床、模具行业、食品加工、船舶业、军工业、医疗、文物等。

　　含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。

　　具备抛动清洗功能，清洗均匀。全封闭外壳与抽风系统，确保良好工作环境。1适合单晶硅片研磨、切割后的批量清洗，多晶硅片线剧切片后的大批量清洗清洗工艺流程:自动上料→去离子水→超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→碱液超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→去离子水超声波清洗→自动下料标准工艺下产量:硅片1000片/小时。自动上料→去离子水＋超声波清洗＋振动筛抛动→碱液＋超声波清洗＋抛动→

　　原位清洗也称定位清洗法。前提是设计一种的胶料，这种胶料可覆贴在模腔表面。硫化后撕下此覆贴层时，原来的模垢层也被一起带了下来，从而使模腔表面得到一次彻底的清洗。设计这种胶的关键是配加能起清洗作用的组分(通常是含氨基或羟胺的化合物)，具体品种有:聚乙醇胺、二乙醇胺、2一氨基一2一甲基一1一丙醇。在硫化过程中，能渗入金属与模垢之界面，从而削弱模垢与金属的结合，待硫化结束，除垢也同步完成。与其他清洗方法相比，原位清洗具有以下三方面的优点:清洗速度快。清洗胶的硫化／促进体系很强，硫化周期很短。如MCR在160-190~C温度下，正硫化时间仅5min。。原位洗模胶所需的洗模时间很短，耗能较少。对于体积大的模具，这种反差更为明显。对模具而言，不会因为洗模而影响表面光洁度，更不会影响尺寸精密度。超声波清洗的原理把液体放入清洗槽内，给槽内作用超声波。由于超声波与声波一