儋州模具清洗机厂家电话

　　综上所述，模压制品的模具型腔污染问题，是常见性的。时有发生。除上采用上述的一些对策尽量减少模具污染程度和出现频次外，只有对被污染的模具型腔进行因地制宜，量力而行的清洗了。目前的清洗方法有机械清洗，［湿式、干式、手工研磨抛光］。化学清洗，超声波清洗。普遍常用的是化学清洗［包括酸洗法和碱洗法］，但是要注意和操作人员的个人防护。目前市场上还有各种类型的洗模液，洗模胶出售，不妨一试。对于模具型腔因硫化反应而被污染的问题，人们还在不断去研究探索的方法去改善。

　　洗时，溢流为停止状态。电解电源为台湾品牌；电流0~200A可调，电压0~30V可调。配置；阴洗篮，阳电。超声波电解清洗槽作用；将模具上的残留氧化物，积碳，流化物，锈斑清洗去除。内槽尺寸:780×650×750（L×W×Hmm），槽体采用2.5mm厚304材料制作。高压喷淋泵；广州南方泵。漂洗槽设进水口、排液口、溢流口；进水管、排液管均设有阀门，水从溢流口流鼓泡:在槽里装有鼓泡管，与需方的气管路连接，通过自动阀门控制。

　　晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台

　　在日常的生产制作过程中，模具很容易产生磨损和损伤，所以要时常保养，才能延长模具的使用寿命，降低企业的消耗成本。模具的保养:要知道模具保养比模具维修更为重要，模具维修的次数越多，那么其寿命就越短；而模具保养得越好，其使用寿命就会越长。