毕节三槽超声波清洗机厂家地址

　　换能器:采用特种锆酸钛酸铅（PZT）压电陶瓷片组成的三明治式的振动头具高、寿命长、不易发生故障的优点。换能器采用特种耐高温、耐振动、高粘度的树脂胶辅以的方法加以固定不脱落，且可耐受100℃~150℃的高温超声波发生器（电源）:采用功率MOS管超声波发生器，电路，结构完整，辅以灵敏的集成控制系统，了超声波清洗机在各种负载下稳定工作。发生器体积小巧，外观新颖，操作十分简便，产品质量及技术水准可与国外同类产品相媲美，一经推出便受到了同行的重视，更得到了广大用户的欢迎。各种超声波发生器可独立工作，亦可多组并联使用，以完成大规模清洗工程。维修简单，若有一组发生故障时，不影响其它各组的工作，此点对于生产线来说，更为重要。机箱内装有散热风扇施行强制冷风，确保长期工作的性。

　　使用超声波清洗机设备规范的电源和电源线，用户的电源电路必须配备专用于清洗机的空气开关，以便在需要时打开和清洁机电源。由于超声波清洗机与水、腐蚀（肿胀）液位接触，易引起渗漏，请遵照接地线的安全要求。

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　　在超声波清洗过程中，肉眼能看见的泡并不是真空核群泡，而是空气气泡，它对空化作用产生抑制作用降低清洗效率。只有液体中的空气气泡被脱走，空化作用的真空核群泡才能达到佳效果。直进流作用:超声波在液体中沿声的传播方向产生流动的现象称为直进流。声波强度在0.5W/cm2时，肉眼能看到直进流，垂直于振动面产生流动，流速约为10cm/s。通过此直进流使被清洗物表面的微油污垢被搅拌，污垢表面的清洗液也产生对流，溶解污物的溶解液与新液混合，使溶解速度加快，对污物的搬运起着很大的作用。加速度:液体粒子推动产生的加速度。对于频率较高的超声波清洗机，空化作用就很不显著了，这时的清洗主要靠液体粒子超声作用下的加速度撞击粒子对污物进行超精密清洗。

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　　半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。半导体/LED/LD硅片清洗加工设备，可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。