广东模具清洗机厂家地址

　　超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机一种超声波清洗装置和具有该超声波清洗装置的涂布机，其中该超声波清洗装置，用于对喷出配向液的喷头进行清洁，包括用于盛放清洗液的清洗槽，与所述清洗槽连接的、用于产生超声波的超声波发生装置，还包括与所述清洗槽连接的、用于回收和储存所述清洗液的储存器。该超声波清洗装置可以对发生堵塞的滴下孔口进行、彻底清洁、耗时短且不会使机台内的洁净度下降且可回收清洗液。

　　含有特殊促进剂配之模具专用洗模剂，以往的洗模剂常因清洁力不足，必须配合金属刷或喷砂来去除模具上的顽垢，因而常常造成模具的损伤，使用本品需将少量的原液或稀释液喷洒在模具表面，在极短时间内，即可完全将顽垢去除干净，不损伤模具，延长其使用寿命。

　　目前的模具清洗方法主要是机械清洗、化学清洗和超声清洗，这些方法都存在着缺陷。激光清洗，因其操作简单、免维护、无耗材、不受空间限制、无环境污染，有电就能工作的特点，是传统清洗不能清洗的边角，清洗起来也很容易，激光清洗是一种不伤基材的清洗，有利于提高产品品质。激光清洗模具还具有无研磨、非接触、无热效应和适用于各种材质的物体等清洗特点，被认为是、有效的解决办法。同时，激光清洗可以解决采用传统清洗方式无法解决的问题。

　　晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。炉前（RCA）清洗:扩散前清洗。光刻后清洗:除去光刻胶。氧化前自动清洗:氧化前去掉硅片表面的沾污物。抛光后自动清洗:除去切、磨、抛的沾污。外延前清洗:除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。合金前、表面钝化前清洗:除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。离子注入后的清洗:除去光刻胶，SiO2层。扩散预淀积后清洗:除去预淀积时的BSG和PSG。CVD后清洗:除去CVD过程中的颗粒。附件及工具的清洗:除去表面的沾污物。可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如:RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。全自动硅片清洗机手动硅片清洗机附件及工具清洗设备有机化学超净工作台